发明名称 |
偏光板 |
摘要 |
本创作系有关于一种偏光板,其包含一偏光层,该偏光层具有一入光面及一出光面,以将由该入光面通过该偏光层之光转换为偏光;以及一具有复数个次波长结构之保护层,其位于该偏光层之该入光面上,以支撑保护该偏光层;其中,藉由该复数个次波长结构,可使由该保护层进入该偏光层之光增加。 |
申请公布号 |
TWM442518 |
申请公布日期 |
2012.12.01 |
申请号 |
TW101213648 |
申请日期 |
2012.07.13 |
申请人 |
明基材料股份有限公司 |
发明人 |
吴丰旭 |
分类号 |
G02B5/30 |
主分类号 |
G02B5/30 |
代理机构 |
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代理人 |
李国光 新北市中和区中正路880号4楼之3;张仲谦 新北市中和区中正路880号4楼之3 |
主权项 |
一种偏光板,其包含:一偏光层,该偏光层具有一入光面及一出光面,以将由该入光面通过该偏光层之光转换为偏光;以及一具有复数个次波长结构之保护层,其位于该偏光层之该入光面上,以支撑保护该偏光层;其中,藉由该复数个次波长结构,可使由该保护层进入该偏光层之光增加。如申请专利范围第1项所述之偏光板,其中该复数个次波长结构包含一栅状重复单元。如申请专利范围第2项所述之偏光板,其中该栅状重复单元之宽度为10 nm至100 nm。如申请专利范围第2项所述之偏光板,其中该栅状重复单元之深宽比为1至100。如申请专利范围第2项所述之偏光板,其中该栅状重复单元之间隔之宽度为10 nm至100 nm。如申请专利范围第1项所述之偏光板,其中该复数个次波长结构之材质系选自甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚对二甲基矽氧烷或其组合物。如申请专利范围第1项所述之偏光板,其中该复数个次波长结构之折射率系介于1.3至1.6。如申请专利范围第1项所述之偏光板,其中该复数个次波长结构之反射率系介于20%至80%。如申请专利范围第1项所述之偏光板,其进一步包含一第二保护层,设置于该偏光层之该出光面,以支撑保护该偏光层。如申请专利范围第9项所述之偏光板,其中该第二保护层系为具备抗眩、抗反射、抗静电膜、防刮、防污或其组合之机能膜。 |
地址 |
桃园县龟山乡建国东路29号 |