载台装置及曝光装置

摘要

本发明，系避免载台之位置控制性的降低。;对移动于移动面之载台供应力量的力量供应装置155，具备：第1轴部232、第1支撑部(234,235)、第2轴部238、以及第2支撑部239；第1轴部系被第1支撑部支撑成能移动于第1轴方向及绕第1轴旋转；第2轴部系被第2支撑部支撑成能移动于第2轴之方向及绕第2轴旋转。如此，藉由将力量供应装置作成至少具有4个自由度之机构，即使载台在2维面内移动于第1、第2轴方向、以及绕各轴旋转之旋转方向，力量供应装置亦不会妨碍其移动，因此与将软管等配管用于供应流体之情形相较，可完全避免因拉扯配管而降低载台之位置控制性。

主权项

一种载台装置，具备移动于移动面之载台、与用以对该载台供应力量之力量供应装置，其特征在于，该力量供应装置，具备：第1轴部，系延伸于该移动面内之第1轴方向；第1支撑部，系将该第1轴部支撑成能移动于该第1轴方向及绕该第1轴旋转；第2轴部，系延伸于与该第1轴交叉之第2轴方向；以及第2支撑部，系将该第2轴部支撑成能移动于该第2轴方向及绕该第2轴旋转。如申请专利范围第1项之载台装置，其中，该力量供应装置进一步具备：第3轴部，系延伸于与该第1轴及该第2轴交叉之第3轴方向；以及第3支撑部，系将该第3轴部支撑成能移动于该第3轴方向及绕该第3轴旋转。如申请专利范围第2项之载台装置，其中，在该第1轴部与该第1支撑部之间、该第2轴部与该第2支撑部之间、以及该第3轴部与该第3支撑部之间，分别设有第1、第2、及第3气体静压轴承。如申请专利范围第1项之载台装置，其中，该力量供应装置，系设于沿该第1轴方向进行等速运动之载具。如申请专利范围第1项之载台装置，其中，在该第1轴部与该第1支撑部之间、以及该第2轴部与该第2支撑部之间，设有第1、第2气体静压轴承。如申请专利范围第1项之载台装置，其中，该力量供应装置具有吸引装置。如申请专利范围第6项之载台装置，其中，该吸引装置系吸引该载台之液体。如申请专利范围第1项之载台装置，其中，具备驱动该载台之驱动装置；该力量供应装置，系将调整该驱动装置之温度的调温流体供应至该驱动装置。如申请专利范围第8项之载台装置，其中，该驱动装置具有设于该载台之开口部的磁铁。如申请专利范围第1项之载台装置，其中，设有复数个该力量供应装置。一种曝光装置，系将装载于载台装置之光罩的图案曝光于基板，其特征在于：系使用申请专利范围第1项之载台装置来作为该载台装置。一种曝光装置，系对装载于载台装置之基板进行曝光以形成图案，其特征在于：系使用申请专利范围第1项之载台装置来作为该载台装置。一种元件制造方法，其特征在于，包含：微影步骤，系使用申请专利范围第11项之曝光装置将元件图案转印至基板。一种元件制造方法，其特征在于，包含：微影步骤，系使用申请专利范围第12项之曝光装置对基板进行曝光以形成元件图案。一种载台装置，其特征在于，具备：载台，系被支撑成能移动于移动面；第1驱动装置，系驱动该载台；平衡器，系藉由以该第1驱动装置驱动该载台时之反作用力而移动于与该载台相反之方向；以及力量供应装置，系透过该平衡器将力量供应至该载台。如申请专利范围第15项之载台装置，其中，该移动面系形成于该平衡器。如申请专利范围第15项之载台装置，其进一步具备驱动该平衡器之第2驱动装置。如申请专利范围第15项之载台装置，其中，该力量供应装置，具备对应该载台之移动而移动的移动部。一种曝光装置，系将装载于载台装置之光罩的图案曝光于基板，其特征在于：系使用申请专利范围第15项之载台装置来作为该载台装置。一种曝光装置，系对装载于载台装置之基板进行曝光以形成图案，其特征在于：系使用申请专利范围第15项之载台装置来作为该载台装置。一种元件制造方法，其特征在于，包含：微影步骤，系使用申请专利范围第19项之曝光装置将元件图案转印至基板。一种元件制造方法，其特征在于，包含：微影步骤，系使用申请专利范围第20项之曝光装置对基板进行曝光以形成元件图案。一种曝光方法，具备将力量供应至移动于2维平面内之载台，而将图案曝光于基板，其特征在于：使该力量供应装置移动于该2维平面内之第1轴方向、及绕该第1轴旋转；以及使该力量供应装置移动于与该第1轴交叉之第2轴方向及绕该第2轴旋转。如申请专利范围第23项之曝光方法，其中，该力量供应装置，不对该载台装置实质上施加阻力。如申请专利范围第23项之曝光方法，其中，该力量供应装置，系移动于与该第1轴方向及该第2轴方向交叉之第3轴方向、及绕该第3轴旋转。如申请专利范围第23项之曝光方法，其中，该力量供应装置系吸引该载台之液体。如申请专利范围第26项之曝光方法，其中，该液体之吸引，系在曝光动作结束后进行。如申请专利范围第23项之曝光方法，其中，该力量供应装置，系将调整该驱动装置温度之调温流体供应至驱动该载台的该驱动装置。一种元件制造方法，其特征在于，包含：微影步骤，系使用申请专利范围第23项之曝光装置对基板进行曝光以形成元件图案。一种载台装置，其特征在于，包含：载台，其可相对于移动面而在四个或多个自由度中移动；力量供应装置，其供应力量至该载台；其中该力量供应装置包含：移动部，其具有供应力量并且可独立于载台而相对于移动面移动的供应元件；第1单元，其具有可在第1轴的方向上移动的第1元件和第2元件，该第2元件具有相对于该第1元件的区段并且能够相对于第1元件在至少两个或多个自由度上移动，该自由度包含该第1轴之方向作为其中1个自由度，且该第1单元执行该第1元件以及第2元件之间的力量传送；以及配置在该移动部以及该第2元件之间的第2单元，当至少两个自由度从四个自由度排除时，该第2单元容许移动部和第2单元之间在自由度的剩余方向上的相对运动，并且执行供应元件和第2单元之间的力量传送。如申请专利范围第30项所述之载台，其中，该载台相对于该移动面在六个自由度上作相对运动；以及该第1元件和该第2元件在两个自由度上作相对运动。如申请专利范围第30项所述之载台，其中，第1静止气体系配置在第1元件和第2元件之间的相对区段中。如申请专利范围第30项所述之载台，其中，该移动部系设有载具，其不断地延着第1轴的方向移动。如申请专利范围第30项所述之载台，其中，该第1元件系固定至该载台。如申请专利范围第30项所述之载台，其中，该第1元件包含第1轴部，其在第1轴方向上延伸；且该第2元件包含第1支撑部，其在第1轴的方向以及环绕该第1轴的方向上可移动地支撑该第1轴部；该第2单元包含：第2轴部，其系延伸于与该第1轴交叉之第2轴方向；以及第2支撑部，系将该第2轴部支撑成能移动于该第2轴方向及绕该第2轴旋转。如申请专利范围第35项所述之载台，其中，该第2单元进一步包含：第3轴部，系延伸于与该第1轴及该第2轴交叉之第3轴方向；以及第3支撑部，系将该第3轴部支撑成能移动于该第3轴方向及绕该第3轴旋转。一种曝光装置，系将装载于载台装置之光罩的图案转印至基板，其特征在于：系使用申请专利范围第30项之载台装置来作为该载台装置。一种曝光装置，系对装载于载台装置之基板进行曝光以形成图案，其特征在于：系使用申请专利范围第30项之载台装置来作为该载台装置。一种元件制造方法，其特征在于，包含：微影步骤，系使用申请专利范围第37项之曝光装置将元件图案转印至基板。一种元件制造方法，其特征在于，包含：微影步骤，系使用申请专利范围第38项之曝光装置对基板进行曝光以形成元件图案。