摘要 |
本发明系关于一种用于处理基板(40)之电浆反应器(1),其包括配置于反应器(1)内之至少两电极(20、30),于其间界定出一内部制程空间(13),其中该两电极(20、30)系彼此对置且电极(20、30)之第一表面(20a)相互平行。此外,其包括用于输送气体进出电浆反应器(1)之气体入口(11)及气体出口(12),连接至电极(20、30)中之至少一者的射频产生器(21)。电极(20、30)中之至少一者具有一校正层,该校正层沿面对内部制程空间(13)之表面(20a)具有非平面形状,其在沿电极(20)之半径之第一横剖面中具有包括三个连续且相邻之区段(即第一、第二及第三区段)的轮廓,其中该第三区段系邻接于电极(20)之边缘,且其中第一区段中之中间梯度系小于第二区段中之中间梯度,且第二区段中之中间梯度系大于第三区段中之中间梯度。以上述方式成形之电极(20)沿基板(40)之表面提供均匀的电浆密度,且因此提供均匀且特征在于均匀厚度的处理。本发明进一步可使真空处理装置(1)之构造精简。 |