| 摘要 |
Ein Sputtergerät, umfassend eine äußere Targetröhre (14), eine innere Unterstützungsröhre (22), die einen Magnetträger (24) unterstützt, der sich entlang im Wesentlichen der gesamten Länge der inneren Unterstützungsröhre (22) erstreckt; und einen Wasserkühlkreislauf, umfassend zumindest einen Durchgang innerhalb der inneren Unterstützungsröhre (22) mit einem Einlass an einem Ende derselben, der eingerichtet ist, um Kühlwasser von einer externen Quelle (34) zu empfangen, zumindest eine Auslassöffnung (36) an einem gegenüberliegenden Ende derselben, die sich zu einer Kühlkammer (40) öffnet, die radial zwischen der inneren Unterstützungsröhre (22) und der äußeren Targetröhre (14) gebildet ist, wobei weiter ein Leitblech (44) vorgesehen ist, umfassend eine im Wesentlichen flache Platte (50), die an der inneren Unterstützungsröhre (22) benachbart dem gegenüberliegenden Ende befestigt ist, wobei die Platte (50) sich radial innerhalb der Kühlkammer (40) zwischen der inneren Unterstützungsröhre (22) und der äußeren Targetröhre (14) erstreckt und eine Anordnung von Strömungsöffnungen (56) darin aufweist.
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