发明名称 EPITAXIALLY COATED SILICON WAFER AND METHOD FOR PRODUCING EPITAXIALLY COATED SILICON WAFER
摘要
申请公布号 KR101206646(B1) 申请公布日期 2012.11.29
申请号 KR20100001179 申请日期 2010.01.07
申请人 发明人
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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