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Eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie dient zur Ausleuchtung eines Objektfeldes, in dem eine abzubildende Struktur anordenbar ist, mit Beleuchtungslicht (3). Die Beleuchtungsoptik hat ein Spiegelarray (26) mit einer Vielzahl von Einzelspiegeln (27). Das Spiegelarray (26) ist in der Beleuchtungsoptik so angeordnet, dass eine Änderung einer Intensitätsverteilung des Beleuchtungslichts (3) auf dem Spiegelarray (26) zu einer Änderung einer Beleuchtungswinkelverteilung des Beleuchtungslichts (3) auf dem Objektfeld (5) führt. Im Strahlengang des Beleuchtungslichts (3) vor dem Spiegelarray (26) ist eine Strahlablenkungseinrichtung (25) zur Ablenkung des Beleuchtungslichts (3) angeordnet. Die Strahlablenkungseinrichtung (25) ist derart ausgebildet, dass sich aufgrund der Strahlablenkung durch die Strahlablenkungseinrichtung (25) eine Intensitätsverteilung (28a) des Beleuchtungslichts (3) auf dem Spiegelarray (26) verlagert. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der eine Beleuchtungswinkelverteilung zur Ausleuchtung des Objektfeldes zwischen aufeinanderfolgenden Beleuchtungsvorgängen mit vertretbarem Aufwand und nach Möglichkeit schnell variiert werden kann.
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