一种连续制备二维纳米薄膜的设备

摘要

本实用新型公开了一种连续制备二维纳米薄膜的设备，包括进料腔室、样品制备腔室、出料腔室等；各腔室之间设有阀门，样品通过滚轮或传送带等样品传送装置实现在各腔室之间传输；各腔室分别连接独立的抽真空装置和气体管道；样品制备腔室设有物理气相沉积系统如溅射靶薄膜沉积系统、热蒸镀系统、电子枪沉积系统、离子注入沉积系统或化学气相沉积系统等；进料腔室可设有加热装置或等离子体等表面处理的系统，出料腔室可设有加热装置等；整台设备设有自动化控制系统以控制腔室之间的阀门的开关，样品的传输，真空系统的运转，气体流量的控制等。利用本设备，可以采用不同的技术方法制备二维纳米薄膜包括石墨烯、过镀金属硫化物、硅烯、锗烯或氮化硼等。本设备结构简单、工作可靠，可大面积地连续制备均匀的石墨烯、过镀金属硫化物、硅烯、锗烯或氮化硼等二维纳米薄膜，适合于二维纳米薄膜的产业化制备。

主权项

一种连续制备二维纳米薄膜的设备，包括进料腔室(4)，样品制备腔室(7)，出料腔室(12)，其特征在于：所述的进料腔室(4)、样品制备腔室(7)和出料腔室(12)均设有样品传送装置；所述的进料腔室(4)设有与大气相通的阀门(31)，进料腔室(4)与样品制备腔室(7)之间设有阀门(32)，样品制备腔室(7)与出料腔室(12)之间设有阀门(33)，出料腔室(12)设有与大气相通的阀门(34)；所述的进料腔室(4)、样品制备腔室(7)和出料腔室(12)中至少有一个腔室设有加热装置；所述的进料腔室(4)、样品制备腔室(7)和出料腔室(12)分别连接独立的抽真空装置；所述的进料腔室(4)、样品制备腔室(7)和出料腔室(12)中的至少一个腔室设有一个或多个气体连接口。