发明名称 对准方法、对准装置及曝光装置
摘要 本发明提供一种对准方法、对准装置及曝光装置。一边输送将图案形成为矩阵状的基板,一边对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置,在基板移动一定距离期间,将在相同位置检测到的亮度变化的次数进行累计,得到与检测到的亮度变化的位置对应排列的多个边缘个数数据,使模板移动,并对算出的多个边缘个数数据进行相关运算,得到多个相关值数据,根据超过了预先设定的阈值的多个相关值数据来确定多个图案的位置,从其中选择与摄像机构的目标位置接近的图案的位置,算出该图案的位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量,以该位置偏差量成为预先设定的值的方式使光掩模沿着与基板的输送方向大致正交的方向移动,其中该摄像机构具有在与基板的输送方向交叉的方向上排列成一直线状的多个受光元件。
申请公布号 CN102804075A 申请公布日期 2012.11.28
申请号 CN201080028720.9 申请日期 2010.06.15
申请人 株式会社V技术 发明人 岩本正实
分类号 G03F9/00(2006.01)I 主分类号 G03F9/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 张宝荣
主权项 一种对准方法,使光掩模与以矩阵状具有一定图案且沿着一方向输送中的被曝光体进行位置对合,其特征在于,执行如下的步骤:对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置的步骤,该摄像机构具有在与所述被曝光体的输送方向交叉的方向上排列成一直线状的多个所述受光元件;在所述被曝光体移动一定距离期间,将在所述受光元件的排列方向上的相同位置检测到的所述亮度变化的次数沿着被曝光体的输送方向进行累计,得到与所述检测到的亮度变化的位置对应排列的多个边缘个数数据的步骤;使对于与所述图案相同形状的图案预先设定了单位边缘个数数据的模板从所述算出的多个边缘个数数据的排列方向的一端朝向另一端移动,并对所述算出的多个边缘个数数据进行相关运算,得到多个相关值数据的步骤;根据超过了利用所述多个相关值数据所预先设定的阈值的多个相关值数据来确定多个图案的位置的步骤;从所述确定的多个图案的位置中选择与预先设定于所述摄像机构的目标位置接近的图案的位置的步骤;算出所述选择的图案的位置与所述摄像机构的目标位置的位置偏差量的步骤;以所述位置偏差量成为预先设定的值的方式至少使所述光掩模沿着与所述被曝光体的输送方向交叉的方向进行相对移动,从而进行所述光掩模与所述被曝光体的位置对合的步骤。
地址 日本国神奈川县