成膜装置、成膜方法、转速的优化方法及存储介质

摘要

本发明提供成膜装置、成膜方法、转速的优化方法及存储介质。该成膜装置能够抑制形成的膜的膜厚的面内均匀性降低。成膜装置（2）用于在被处理体（W）上形成膜，其中，成膜装置包括：处理容器（4）；气体供给部件（28、30），其具有用于喷射气体的气体喷射口（34A、36A）；保持部件（12），其用于在处理容器内保持被处理体；驱动机构（21），其用于使保持部件相对于气体喷射口相对地旋转或者周期性地移动；控制部件（48），在将由供给至少1种气体的供给期间和停止供给的供给停止期间构成的1次循环重复多次时，控制部件进行控制，从而在循环的重复数为P（P是2以上的自然数）时从被处理体的中心观察，使P次循环中的各循环的气体供给开始位置沿着被处理体的周向依次移动将被处理体的1周的周围分割成任意的分割数K（K＝P）个而成的1份的量。

主权项

一种成膜装置，该成膜装置用于在被处理体上形成期望的膜，其特征在于，该成膜装置包括：处理容器，其用于收容上述被处理体；气体供给部件，其具有用于向上述处理容器内喷射气体的气体喷射口；保持部件，其用于在上述处理容器内保持上述被处理体；驱动机构，其用于使上述保持部件相对于上述气体喷射口相对地旋转或者周期性地移动；控制部件，其用于控制气体供给部件和驱动机构；控制部件控制气体供给部件，将由供给至少1种气体的供给期间和停止供给的供给停止期间构成的循环执行P次（P是2以上的自然数）时，控制部件将被处理体的周围分割成分割数K（K＝P）个，使P次循环中的各循环的气体供给开始位置沿着周向依次移动该分割成的1份的量。