| 发明名称 | 一种刻蚀设备及其上部电极 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种刻蚀设备及其上部电极，涉及机械结构领域，所述上部电极上设有多个电极孔，所述上部电极至少由第一区域和第二区域组成，所述电极孔在所述第一区域的分布密度和所述电极孔在所述第二区域的分布密度不同。本发明根据所刻蚀膜层材质的不同，改变上部电极上的电极孔的设置区域和电极孔间的间隔，从而实现了改善刻蚀率均一性的目的。 | ||
| 申请公布号 | CN102797012A | 申请公布日期 | 2012.11.28 |
| 申请号 | CN201210265642.5 | 申请日期 | 2012.07.27 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 蒋冬华;李炳天;傅永义;赵吾阳 |
| 分类号 | C23F1/08(2006.01)I;C30B33/12(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种刻蚀设备的上部电极，所述上部电极上设有多个电极孔，其特征在于，所述上部电极至少由第一区域和第二区域组成，所述电极孔在所述第一区域的分布密度和所述电极孔在所述第二区域的分布密度不同。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||