发明名称 |
用于形成顶层抗反射膜的组合物以及使用该组合物的图案形成方法 |
摘要 |
公开了一种用于形成顶层抗反射膜的组合物,其包含至少一种含氟化合物和通式(1)表示的季铵化合物(其中R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>中的至少一个表示羟基或链烷醇基,其余的表示氢原子或具有1~10个碳原子的烷基;X<sup>-</sup>表示羟基、卤离子或硫酸根离子),以及非强制选择的水溶性聚合物、酸、表面活性剂和水性溶剂。该用于形成顶层抗反射膜的组合物当以较少用量涂覆时,可以表现出与传统的用于形成顶层抗反射膜的组合物相同水平的功能。通式(1)<img file="dpa00001155202000011.GIF" wi="590" he="346" /> |
申请公布号 |
CN101849209B |
申请公布日期 |
2012.11.28 |
申请号 |
CN200880119991.8 |
申请日期 |
2008.12.10 |
申请人 |
AZ电子材料IP(日本)株式会社 |
发明人 |
秋山靖;能谷刚;仓本胜利;高野祐辅 |
分类号 |
G03F7/11(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/11(2006.01)I |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 11216 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
1.一种用于形成顶层抗反射膜的组合物,其包含(A)至少一种含氟化合物和(B)由通式(1)表示的季铵化合物:通式(1)<img file="FSB00000884557100011.GIF" wi="567" he="316" />其中R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>中的至少一个表示羟基或链烷醇基,其余的表示氢原子或具有1~10个碳原子的烷基,X<sup>-</sup>表示羟基或卤离子,其中含氟化合物是含氟聚合物,所述含氟聚合物是包含由通式(2)表示的聚合物单元的含氟聚合物或包含由通式(2)表示的聚合物单元与由通式(3)表示的聚合物单元的含氟聚合物;通式(2)-[CF<sub>2</sub>CF(OR<sub>f</sub>COOH)]-其中R<sub>f</sub>表示可以含有醚氧原子的直链或支链全氟链烯基;通式(3)-[CF<sub>2</sub>CFX<sup>1</sup>]-其中X<sup>1</sup>表示氟原子、氯原子或氢原子;其中含氟化合物的用量相对于1重量份通式(1)表示的季铵化合物为1~100重量份。 |
地址 |
日本国东京都 |