一种低温插层法生产氟化石墨的工艺

摘要

本发明涉及一种低温插层法生产氟化石墨的工艺。工艺如下：用五氟化锑插层石墨和氟氮混合气生产氟化石墨；氟氮混合气中氟和氮所占质量百分浓度分别为10%—30%和70%—90%；反应温度200℃—500℃，压力100KPa—300KPa。其次用氟和氮所占质量百分浓度分别为50%的氟氮混合气和锑粉直接反应制备气态五氟化锑，再将经冷却得到液态五氟化锑和膨胀石墨按1∶1.5—1∶9的质量比，投入真空容器中，并控制温度在100℃—150℃，反应12小时以上制得五氟化锑插层石墨。本发明氟化石墨收率可以达到43%—74%，生产安全；同时可以根据调节反应时间来控制氟化石墨的氟碳比，得到不同氟碳比的氟化石墨。

主权项

一种低温插层法生产氟化石墨的工艺，用五氟化锑插层石墨与氟氮混合气反应生产氟化石墨，其特征是所述工艺分三个步骤：第一步，用氟和氮所占质量百分浓度分别为50%的氟氮混合气和锑粉直接反应制备五氟化锑；锑粉和氟氮混合气直接反应生成气态五氟化锑，反应生成的气态五氟化锑经冷却得到液态五氟化锑；第二步，将液态五氟化锑和膨胀石墨按1:1.5—1:9的质量比，投入真空不锈钢容器中，并控制温度在100℃—150℃，反应24小时以上制得五氟化锑插层石墨；第三步，将五氟化锑插层石墨放入氟化石墨反应器，喷入氟和氮所占质量百分浓度分别为10%—30%和70%—90%的氟氮混合气，喷入流量为5m3/h—15 m3/h，控制温度在200℃—500℃，压力控制在100KPa—300KPa的环境下，反应制得氟化石墨；氟氮混合气在整个反应系统中封闭循环进入反应器。