发明名称 阻隔性层叠体、阻隔性膜基板、它们的制造方法以及器件
摘要 本发明涉及阻隔性层叠体、阻隔性膜基板、它们的制造方法以及器件。本发明的目的在于提供水蒸气透过率低于0.01g/m<sup>2</sup>/天且粘附性良好的有机无机层叠型的阻隔性层叠体和阻隔性膜基板,以及提供使用了上述阻隔性层叠体或阻隔性膜基板的耐久性高的器件。在本发明中,作为有机无机层叠型的阻隔性层叠体的有机层,采用包含具有由下式表示的结构单元的聚合物的层。由此,水蒸气透过率降低,粘附性变良好。在下式中R<sup>1</sup>及R<sup>2</sup>表示氢原子或甲基,L表示碳原子数为8以上且不含有氧原子、氮原子、硫原子的开链状亚烷基。<img file="b2008100099651a00011.GIF" wi="393" he="861" />
申请公布号 CN101244641B 申请公布日期 2012.11.28
申请号 CN200810009965.1 申请日期 2008.02.15
申请人 富士胶片株式会社 发明人 阿形祐也
分类号 B32B7/02(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;C09K3/10(2006.01)I 主分类号 B32B7/02(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 陈建全
主权项 一种阻隔性层叠体,其特征在于,其具有至少1层有机层和至少1层无机层,且所述有机层为包含1,9‑壬二醇二丙烯酸酯的聚合物或2‑丁基‑2‑乙基‑1,3‑丙二醇二丙烯酸酯的聚合物的层。
地址 日本东京都