无损坏高效颗粒移除清洁

摘要

从半导体衬底表面移除污染物的系统、方法和装置，其包括施加清洁材料。所述清洁材料包括清洁溶液和分散于所述清洁溶液的多个微米大小的干聚乙烯醇颗粒。所述清洁溶液为由长聚合链组成的并表现明显的粘弹性的单相聚合物。所述多个微米大小的干聚乙烯醇颗粒吸收所述清洁溶液中的液体并均匀地悬浮在所述清洁材料中。所述悬浮的聚乙烯醇颗粒与半导体衬底表面上污染物的至少一部分相互作用，以从衬底表面释放并移除污染物。释放后的污染物被俘获在所述清洁材料中并与所述清洁材料被移除，留下基本干净的衬底表面。

主权项

从半导体衬底表面移除污染物的清洁材料，其包括：表现明显粘弹性的清洁溶液，所述清洁溶液为聚合物、去离子水和一种或多种带有长聚合链的添加剂的单相混合物；以及多个干聚乙烯醇(PVA)颗粒，其分散于所述清洁溶液中以形成清洁材料，所述干聚乙烯醇颗粒为微米尺寸大小，其中所述干聚乙烯醇颗粒吸收所述清洁溶液的液体并均匀悬浮在所述清洁材料中；其中均匀悬浮在清洁材料中的所述干聚乙烯醇颗粒与所述污染物的至少一部分相互作用以从所述衬底表面释放所述污染物，且其中所释放的所述污染物被俘获在所述清洁材料中。