包含氧化铈和二氧化硅的分散体

摘要

包含氧化铈和二氧化硅的含水分散体，该分散体可通过以下过程获得：首先在搅拌的同时混合氧化铈起始分散体和二氧化硅起始分散体，然后在10000s-1至30000s-1剪切速率下分散，其中a)所述氧化铈起始分散体含有0.5重量％至30重量％氧化铈颗粒作为固相，粒度分布的d50为10nm至100nm，并且pH为1至7，且b)所述二氧化硅起始分散体含有0.1重量％至30重量％胶体二氧化硅颗粒作为固相，粒度分布的d50为3nm至50nm，并且pH为6至11.5，c)条件是所述氧化铈颗粒的粒度分布的d50大于所述二氧化硅颗粒的粒度分布的d50，氧化铈/二氧化硅重量比大于1，并且所述氧化铈起始分散体的量使所述分散体的Z电位为负。

主权项

含水分散体，其包含氧化铈和二氧化硅，该分散体可通过以下过程获得：首先在搅拌的同时混合氧化铈起始分散体和二氧化硅起始分散体，然后在10000s‑1至30000s‑1的剪切速率下分散，其中a)所述氧化铈起始分散体—含有0.5重量％至30重量％氧化铈颗粒作为固相，—粒度分布的d50为10nm至100nm，—并且pH为1至7，且b)所述二氧化硅起始分散体—含有0.1重量％至30重量％胶体二氧化硅颗粒作为固相，—粒度分布的d50为3nm至50nm，并且—pH为6至11.5，c)条件是—所述氧化铈颗粒的粒度分布的d50大于所述二氧化硅颗粒的粒度分布的d50，—氧化铈/二氧化硅重量比大于1，并且—所述氧化铈起始分散体的量使所述分散体的ZZ电位为负。