发明名称 |
一种利用多缝衍射法测量光学薄膜厚度的装置 |
摘要 |
一种利用多缝衍射法测量光学薄膜厚度的装置,涉及一种测量光学薄膜厚度的装置,它为了解决现有三角测量装置测量精度低和相位测量装置复杂的问题,它包括二元光栅、凸透镜、CCD探测器和数据处理单元,沿光路方向依次固定二元光栅、凸透镜和CCD探测器,CCD探测器的光敏面位于凸透镜的焦平面上,CCD探测器的信号输出端连接在数据处理单元的数据输入端。适用于测量纳米级薄膜的厚度。 |
申请公布号 |
CN202562444U |
申请公布日期 |
2012.11.28 |
申请号 |
CN201220210852.X |
申请日期 |
2012.05.11 |
申请人 |
黑龙江工程学院 |
发明人 |
贺泽龙;刘静森;白云峰;李林军 |
分类号 |
G01B11/06(2006.01)I |
主分类号 |
G01B11/06(2006.01)I |
代理机构 |
哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 |
代理人 |
张宏威 |
主权项 |
一种利用多缝衍射法测量光学薄膜厚度的装置,其特征是,它包括二元光栅(2)、凸透镜(3)、CCD探测器(4)和数据处理单元(5),沿光路方向依次固定二元光栅(2)、凸透镜(3)和CCD探测器(4),CCD探测器(4)的光敏面位于凸透镜(3)的焦平面上,CCD探测器(4)的信号输出端连接在数据处理单元(5)的数据输入端。 |
地址 |
150050 黑龙江省哈尔滨市道外区红旗大街999号 |