首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 SLURRY COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE BY USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR101206075(B1) 申请公布日期 2012.11.28
申请号 KR20100129247 申请日期 2010.12.16
申请人 发明人
分类号 C09K3/14;H01L21/304 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com