发明名称 曝光装置及曝光、检查方法及显示用面板基板的制造方法
摘要 一种曝光装置及其曝光、检查方法及显示用面板基板的制造方法,本发明抑制从光束照射装置照射的光束的变形以提高绘制精度。在夹盘上设置第1图像获取装置(CCD相机(51)),在光束照射装置的头部与第1图像获取装置之间配置设有检查用图案的标线片。将检查用的绘制数据供给至光束照射装置的驱动电路,通过第1图像获取装置来获取标线片的检查用图案(2a)的图像及从光束照射装置照射的光束的像(2c)。从由第1图像获取装置所获取的标线片的检查用图案(2a)的图像及光束的像(2c)中,检测光束的位置偏移,以检测光束的变形。基于光束变形的检测结果,对曝光用的绘制数据的坐标进行修正,并供给至光束照射装置的驱动电路。
申请公布号 CN102799073A 申请公布日期 2012.11.28
申请号 CN201210159670.9 申请日期 2012.05.17
申请人 株式会社日立高科技 发明人 林知明;吉田稔;本田英之
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G01B11/03(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人 寿宁;张华辉
主权项 一种曝光装置,包括:夹盘,支撑涂布有光致抗蚀剂的基板;光束照射装置,具有空间光调制器、驱动电路以及包含照射光学系统的头部,所述空间光调制器对光束进行调制,所述驱动电路基于绘制数据来驱动所述空间光调制器,所述照射光学系统照射经所述空间光调制器调制后的光束;以及移动机构,使所述夹盘与所述光束照射装置相对移动,通过所述移动机构使所述夹盘与所述光束照射装置相对移动,通过来自所述光束照射装置的光束来扫描所述基板,以在所述基板上绘制图案,所述曝光装置的特征在于包括:绘制控制机构,将检查用的绘制数据及曝光用的绘制数据供给至所述光束照射装置的所述驱动电路;第1图像获取装置,设在所述夹盘上;标线片,配置在所述光束照射装置的头部与所述第1图像获取装置之间,且设有检查用图案;以及图像处理装置,从所述第1图像获取装置所获取的所述标线片的所述检查用图案的图像及所述光束照射装置照射的光束的像中,检测光束的位置偏移,所述绘制控制机构将所述检查用的绘制数据供给至所述光束照射装置的所述驱动电路,并基于由所述图像处理装置检测出的光束的位置偏移来检测光束的变形,以对所述曝光用的绘制数据的坐标进行修正。
地址 日本东京港区西新桥1丁目24番14号