发明名称 | 光刻的检验 | ||
摘要 | 一种系统,配置成测量从衬底衍射的两个分离的偏振束以确定衬底上的光栅的性质。线偏振光源通过固定的相推迟器以便改变两个正交的偏振辐射束中的一个相对于两个束的另一个的相。两个辐射束的相对的相以及检测器中测量的束的其他特征得出衬底表面的性质。光栅和所述辐射束的初始线性偏振相对于彼此成非正交的角度。 | ||
申请公布号 | CN102804073A | 申请公布日期 | 2012.11.28 |
申请号 | CN201180014244.X | 申请日期 | 2011.02.21 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | A·斯特拉艾杰 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王鹏鑫 |
主权项 | 一种测量衬底上光栅的性质的方法,所述方法包括步骤:提供具有线性偏振的辐射束;在一定范围的入射角和方位角条件下将辐射束反射离开光栅;引入相移至所述线性束,由此将其偏振改变为椭圆偏振;将被反射的辐射束分成第一和第二正交的偏振子束;将第一子束的相相对于第二子束偏移固定的量;和同时检测两个子束的角分辨光谱;其中,所述光栅和所述辐射束的初始线性偏振方向相对彼此成非正交的角度。 | ||
地址 | 荷兰维德霍温 |