一种电沉积型光致抗蚀剂及其制备方法和成膜方法

摘要

本发明公开了一种电沉积型光致抗蚀剂，包括如下组份：17.0-19.0wt%的水性丙烯酸类共聚物基体树脂、0.5-0.7wt%的光产酸剂、0.2-0.4wt%的光敏剂、4.0-5.0wt%的活性稀释剂、1.0-2.0wt%的表面活性剂、2.0-3.0wt%的无机填料及70.0-72.0wt%的溶剂。本发明还公开了一种电沉积型光致抗蚀剂的制备方法，包括如下步骤：1）上述的水性丙烯酸类共聚物基体树脂的制备；2）光致抗蚀剂的配制。本发明还公开了一种电沉积型光致抗蚀剂的成膜方法，包括步骤：将上述的光致抗蚀剂装入电沉积槽中进行电沉积固化成膜，本发明具有成本低、工艺简单，易于产业化等特点。

主权项

一种负性电沉积型光致抗蚀剂，其特征在于：包括如下组份：17.0‑19.0wt%的水性丙烯酸类共聚物基体树脂、0.5‑0.7wt%的光产酸剂、0.2‑0.4wt%的光敏剂、4.0‑5.0wt%的活性稀释剂、1.0‑2.0wt%的表面活性剂、2.0‑3.0wt%的无机填料及70.0‑72.0wt%的溶剂。