发明名称 从批式热处理装置的石英制构件中除去金属杂质的方法
摘要 本发明提供一种从批式热处理装置的石英制构件中除去金属杂质的方法,其包括:在没有收纳作为产品的被处理基板的处理容器内收纳用于使金属杂质附着的多个伪基板的工序;接着,通过向处理容器内供给含有氯的气体和水蒸气,并将处理容器的石英制内表面加热至处理温度,对所述石英制部分实施烘焙处理,使金属杂质从石英制内表面释放并附着在所述伪基板上的工序;和接着,将附着有金属杂质的伪基板从反应容器中搬出的工序。
申请公布号 CN101372739B 申请公布日期 2012.11.28
申请号 CN200810168649.9 申请日期 2008.08.08
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 渡边将久;石井胜利;柴田哲弥
分类号 C23C16/44(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种用于在批式热处理装置中从石英制构件中除去金属杂质的方法,其特征在于:所述装置包括:在垂直方向上有间隔地收纳多个被处理基板并形成热处理气氛的处理容器,所述处理容器具有露出在所述热处理气氛中的石英制内表面;对所述处理容器内进行加热的加热器;对所述处理容器内进行排气的排气系统;和将处理气体供向所述处理容器内的处理气体供给系统,所述方法包括:在没有收纳作为产品的被处理基板的所述处理容器内收纳用于使作为所述金属杂质的铝附着的多个伪基板的工序,所述伪基板具有硅表面;接着,通过向所述处理容器内供给含有氯的气体和水蒸气,并将所述处理容器的所述石英制内表面加热至处理温度,对所述石英制内表面实施烘焙处理,使铝从所述石英制内表面释放并附着在所述伪基板上,使铝与作为所述伪基板的材料的硅结合的工序;和接着,将附着有所述金属杂质的所述伪基板从所述处理容器内搬出的工序,通过交换伪基板对所述石英制内表面重复进行所述烘焙处理。
地址 日本东京都