| 发明名称 | 设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于在衬底表面上进行原子层沉积的设备(1)，通过对衬底(11)表面进行交替的起始物料表面反应来进行原子层沉积，该设备包括：两个或更多个低压室(2)；两个或更多个独立的反应室(8，12)，这些反应室设置用于放在低压室(2)内部；以及至少一个起始物料输入系统(5)，它由两个或更多个低压室(2)共用，以进行原子层沉积。根据本发明，该设备包括至少一个装载装置(6，16)，设置成给反应室(8，12)装载和卸载衬底(11)，以及进一步给低压室(2)装载和卸载反应室(8，12)。 | ||
| 申请公布号 | CN102803558A | 申请公布日期 | 2012.11.28 |
| 申请号 | CN201080026506.X | 申请日期 | 2010.06.14 |
| 申请人 | BENEQ有限公司 | 发明人 | P·索伊尼宁;J·斯卡普 |
| 分类号 | C23C16/54(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/54(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 林振波 |
| 主权项 | 一种用于在衬底(11)表面上进行原子层沉积的设备(1)，通过对衬底(11)表面进行交替的起始物料表面反应来进行原子层沉积，该设备包括：两个或更多个低压室(2)；两个或更多个独立的可动反应室(8，12)，这些可动反应室设置用于放在低压室(2)内部；以及至少一个起始物料输入系统(5)，它由两个或更多个低压室(2)共用，其特征在于：该设备包括至少一个装载装置(6)，该装载装置设置成给可动反应室(8，12)装载和卸载衬底(11)，以及进一步给低压室(2)装载和卸载可动反应室(8，12)。 | ||
| 地址 | 芬兰万塔 | ||