连续式镀膜设备

摘要

本实用新型公开一种连续式镀膜设备，包含有多弧离子源、真空装置、进气装置和温控装置的真空镀膜机构，由有进料口的进料室、有出料口的出料室和真空镀膜室构成耐压的密封空间，所述的真空镀膜室两端分别与进料室、出料室密封连接，所述的真空镀膜机构设在真空镀膜室，其中，所述的进料室设有放卷轴，放卷轴上设有刹车机构；所述的出料室设有收卷轴，收卷轴由电机带动；所述的真空镀膜室内设有张力辊。本实用新型的连续式镀膜设备能不间断地进行金属基材离子镀膜，且本设备操作简单、工序简便、产量大、效率高，节约能源达70%以上，节约劳动力为80%以上。

主权项

一种连续式镀膜设备，包含有多弧离子源、真空装置、进气装置和温控装置的真空镀膜机构，其特征在于：由有进料口的进料室、有出料口的出料室和真空镀膜室构成耐压的密封空间，所述的真空镀膜室两端分别与进料室、出料室密封连接，所述的真空镀膜机构设在真空镀膜室，其中，所述的进料室设有放卷轴，放卷轴上设有刹车机构；所述的出料室设有收卷轴，收卷轴由电机带动；所述的真空镀膜室内设有张力辊。