光阻组合物及图案形成方法

摘要

本发明是一种化学增幅型光阻组合物，其至少含有1种或2种以上的具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的胺化合物或氧化胺化合物，但排除胺及氧化胺的氮原子被包含于芳香环的环状结构的情形。由此，可提供一种化学增幅光阻材料等的光阻材料、及使用此材料的图案形成方法，该光阻材料在用于微加工的微影成像术且特别是使用KrF激光、ArF激光、F2激光、极短紫外线、电子射线、X射线等作为曝光光源的微影术中，可赋予高解像性，同时在基板界面也能赋予良好图案形状。

主权项

1.一种化学增幅型光阻组合物，其特征在于，含有：(A1)基础树脂，其是以酸不稳定基保护而具有酸性官能基的碱不溶性或难溶性的树脂，当该酸不稳定基脱离时会变成碱可溶性；(B)酸产生剂；及(C)1种或2种以上的具有羧基且不含有共价键结于碱性中心即氮上的氢的胺化合物，但排除胺的氮原子被包含于芳香环的环状结构的情形，并且是以下述一般式(1)表示的具有羧基的胺化合物，式中，R₁、R₂分别是碳数2～20的直链状、支链状或环状的烷基，R₃是氢；R₄是碳数0～20的直链状、支链状或环状的亚烷基。