发明名称 |
对超厚金属沟槽边缘的过刻蚀深度进行监测的方法 |
摘要 |
本发明公开了对超厚金属沟槽边缘的过刻蚀深度进行监测的方法,包括:在形成第一层之后,在第二层中形成第一层与第三层的超厚金属沟槽之间的中心通孔,在中心通孔中填入金属构成中心连线,并形成第一层与第三层的超厚金属沟槽边缘的过刻蚀处之间的边缘通孔,在边缘通孔中填入金属构成边缘连线,所述中心连线和所述边缘连线具有相同的横截面积和相同的高度;在第三层中刻蚀超厚金属沟槽,在刻蚀的超厚金属沟槽中填入金属;分别测出中心连线电阻和边缘连线未被包裹部分电阻;根据测出的中心连线电阻和边缘连线未被包裹部分电阻,计算得到超厚金属沟槽边缘过刻蚀的深度。本发明方案能够监测出超厚金属沟槽边缘的过刻蚀深度。 |
申请公布号 |
CN102097285B |
申请公布日期 |
2012.11.28 |
申请号 |
CN200910201493.4 |
申请日期 |
2009.12.15 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
王贵明 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
牛峥;王丽琴 |
主权项 |
一种对超厚金属沟槽边缘的过刻蚀深度进行监测的方法,包括:在形成第一层之后,在第二层中形成第一层与第三层的超厚金属沟槽之间的中心通孔,在中心通孔中填入金属构成中心连线,并形成第一层与第三层的超厚金属沟槽边缘的过刻蚀处之间的边缘通孔,在边缘通孔中填入金属构成边缘连线,所述中心连线和所述边缘连线具有相同的横截面积和相同的高度;在第三层中刻蚀超厚金属沟槽,在刻蚀的超厚金属沟槽中填入金属;边缘连线形成在边缘部分,边缘连线的顶部有部分被过刻蚀的金属包裹,分别测出中心连线电阻和边缘连线未被包裹部分电阻;根据测出的中心连线电阻和边缘连线未被包裹部分电阻,计算得到超厚金属沟槽边缘过刻蚀的深度。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |