发明名称 | 供在太阳能电池制造中使用的等离子体格栅注入系统 | ||
摘要 | 一种离子注入方法,包括:在室的等离子体区内提供等离子体;正向偏置第一格栅板,其中第一格栅板包括多个孔;负向偏置第二格栅板,其中第二格栅板包括多个孔;使来自等离子体区中的等离子体的离子流过正向偏置的第一格栅板中的孔;使流过正向偏置的第一格栅板中的孔的离子的至少部分流过负向偏置的第二格栅板中的孔;以及向衬底注入流过负向偏置的第二格栅板中的孔的离子的至少部分。 | ||
申请公布号 | CN102804329A | 申请公布日期 | 2012.11.28 |
申请号 | CN201080025312.8 | 申请日期 | 2010.06.23 |
申请人 | 因特瓦克公司 | 发明人 | B·阿迪比;M·丘恩 |
分类号 | H01J37/08(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/08(2006.01)I |
代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 王茂华;董典红 |
主权项 | 一种等离子体格栅注入系统,包括:等离子体源,被配置成提供等离子体;第一格栅板,包括被配置成允许来自等离子体区中的所述等离子体的离子通过的多个孔,其中所述第一格栅板被配置成由电源正向偏置;第二格栅板,包括被配置成在所述离子通过所述第一格栅板之后允许所述离子通过的多个孔,其中所述第二格栅板被配置成由电源负向偏置;以及衬底保持器,被配置成在如下位置支撑衬底,在所述离子通过所述第二格栅板之后在所述位置向所述衬底注入所述离子。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |