发明名称 |
一种用于熔解晶体硅的坩埚及其制备方法和喷涂液 |
摘要 |
本发明涉及一种用于熔解晶体硅的坩埚及制备方法和喷涂液,属于坩埚技术领域。解决现有坩埚在使用过程中涂层易剥落和破损现象,不能很好的防止杂质的渗透的问题,目的在于提供一种用于熔解晶体硅的坩埚的涂层的喷涂液,该喷涂液包含氮化硅、烧结添加剂、在常温下能够与坩埚本体粘结的有机粘结剂、无机粘结剂和烧结粘结剂。还提供了一种采用该喷涂液的坩埚,该坩埚包括坩埚本体,所述的坩埚本体的内表面涂覆有涂层,所述的涂层由喷涂液喷涂而成,还提供了一种该坩埚的制备方法,通过喷涂、干燥、烧除、烧结处理后得到用于熔解晶体硅的坩埚。该坩埚能够重复使用,且涂层不易剥落和破损,能够有效了防止坩埚本体中的杂质特别是氧元素的渗透现象。 |
申请公布号 |
CN102797042A |
申请公布日期 |
2012.11.28 |
申请号 |
CN201210326561.1 |
申请日期 |
2012.09.06 |
申请人 |
张礼强 |
发明人 |
张礼强 |
分类号 |
C30B35/00(2006.01)I;F27B14/10(2006.01)I;C04B41/87(2006.01)I |
主分类号 |
C30B35/00(2006.01)I |
代理机构 |
台州市方圆专利事务所 33107 |
代理人 |
蔡正保;张智平 |
主权项 |
一种用于熔解晶体硅的坩埚,其特征在于,包括坩埚本体(1),所述的坩埚本体(1)的内表面涂覆有涂层(2),所述的涂层(2)由喷涂液喷涂而成,所述喷涂液包含氮化硅、烧结添加剂、在常温下能够与坩埚本体(1)粘结的有机粘结剂、无机粘结剂和烧结粘结剂。 |
地址 |
318000 浙江省台州市椒江区东升花园26号楼三单元206室 |