发明名称 厚度或表面形貌检测方法
摘要 本发明涉及厚度或表面形貌检测方法,根据本发明的厚度或表面形貌检测方法,利用白色光干涉计检测层叠在基底层上的薄膜层的厚度或表面形貌,其包括以下步骤:设置多个具有不同厚度的假想的薄膜层样品,并对各个薄膜层样品模拟出干涉信号,以形成与每一个厚度对应的模拟干涉信号的步骤;向所述薄膜层照射白色光,获得相对于入射到所述薄膜层的光轴方向的实际干涉信号的步骤;根据所述实际干涉信号,形成可能成为所述薄膜层厚度的多个厚度估算值的步骤;对具有与所述厚度估算值对应的厚度的模拟干涉信号与所述实际干涉信号进行比较并判断是否基本一致的步骤;以及将与所述实际干涉信号基本一致的模拟干涉信号的厚度确定为所述薄膜层的厚度的步骤。
申请公布号 CN102077051B 申请公布日期 2012.11.28
申请号 CN200980124818.1 申请日期 2009.01.16
申请人 株式会社SNU精密 发明人 朴喜载;安祐正;金星龙;李焌赫
分类号 G01B11/25(2006.01)I 主分类号 G01B11/25(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 李伟;王轶
主权项 一种厚度或表面形貌检测方法,利用白色光干涉计检测层叠于基底层上的薄膜层的厚度或表面形貌,其特征在于,包括以下步骤:设置多个具有不同厚度的假想的薄膜层样品,并对每个薄膜层样品模拟出干涉信号,以形成对应于每一厚度的模拟干涉信号的步骤;向所述薄膜层照射白色光,从而在入射到所述薄膜层的光轴方向上获得实际干涉信号的步骤;根据所述实际干涉信号,形成可能成为所述薄膜层的厚度的多个厚度估算值的步骤;对具有与所述厚度估算值对应的厚度的模拟干涉信号和所述实际干涉信号进行比较并判断是否基本一致的步骤;以及将与所述实际干涉信号基本一致的模拟干涉信号的厚度确定为所述薄膜层的厚度的步骤。
地址 韩国首尔