发明名称 太阳能电池及其制造方法
摘要 公开了具有良好电池特性的太阳能电池、以及该太阳能电池的制造方法。具体地,公开了包括至少一层光电转换元件的太阳能电池的制造方法,在这些层中由微晶硅膜构成的i型硅层设置在n型硅层和p型硅层之间,并且基板侧n型硅层或p型硅层由非晶硅膜构成。在该方法中,通过将含硅烷气体和氢气的混合气体引入腔室的等离子体CVD法来形成光电转换元件,并且在基板侧n型硅层或p型硅层与i型硅层之间形成由微晶硅膜构成的籽晶层。籽晶层在与基板侧n型硅层或p型硅层接触的部分中具有比i型硅层低的结晶率,并且继续至结晶率朝着i型硅层阶段性地或逐渐地增大的i型硅层。
申请公布号 CN102804394A 申请公布日期 2012.11.28
申请号 CN201080065423.1 申请日期 2010.09.08
申请人 富士电机株式会社 发明人 大濑直之;竹中研介
分类号 H01L31/04(2006.01)I 主分类号 H01L31/04(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 张鑫
主权项 一种具有至少一层或多层光电转换元件的太阳能电池,在所述层中由微晶硅膜构成的i型硅层设置在n型硅层和p型硅层之间,所述太阳能电池的特征在于,所述光电转换元件使得置于基板侧的所述n型硅层或p型硅层由非晶硅膜构成,以及由微晶硅膜构成的籽晶层设置在置于所述基板侧的所述n型硅层或p型硅层与所述i型硅层之间,其中与置于所述基板侧的所述n型硅层或p型硅层接触的部分的结晶率低于所述i型硅层的结晶率,并且所述结晶率朝着所述i型硅层侧、继续至所述i型硅层连续地或分两个或更多个阶段逐渐地增大。
地址 日本神奈川县