| 摘要 |
1. Система (ES) экспонирования для стереолитографического устройства (SA), содержащая:по меньшей мере один светоизлучающий диод (LD), излучающий свет с длиной волны между 200 и 100000 нм,по меньшей мере один пространственный модулятор (SLM) света, с множеством индивидуально управляемых модуляторов (LM) света,входную оптическую систему (IO), оптически соединенную с по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,выходную оптическую систему (OO), оптически соединенную с по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,по меньшей мере одно управляющее устройство (CU),в которой входная оптическая система (IO) и выходная оптическая система (OO) способствуют пропусканию света, излучаемого от по меньшей мере одного светоизлучающего диода (LD) через индивидуально управляемые модуляторы (LM) света пространственного модулятора (SLM) света на освещаемую область (IA),в которой пространственный модулятор (SLM) света выполнен с возможностью установления изображения света от входной оптической системы (IO) в соответствии с управляющими сигналами от управляющего устройства (CU),в которой выходная оптическая система (OO) выполнена с возможностью фокусировать изображение света от по меньшей мере одного пространственного модулятора (SLM) света на пятне (ISP) освещения,в которой система (ES) экспонирования выполнена с возможностью выравнивать свет, излучаемый светоизлучающим диодом (LD) под углом более 45° к оптической оси (OALD) светоизлучающего диода (LD) так, чтобы направлять этот свет в направлении, параллельном этой оптической оси (OALD),и в которой система (ES) экспонирования содержит средство для выравнивания сета, излучаемого от по мень� |
