| 摘要 |
1. Система для макетирования, включающая:(а) устройство для получения трехмерного объекта из светочувствительного материала, причем указанное устройство включает:систему (ES) экспонирования с источником излучения,устройство (CU) управления,где указанная система (ES) экспонирования включает:по меньшей мере один пространственный модулятор (SLM) света с многочисленными индивидуально регулируемыми модуляторами (LM) света,входную оптику (IO), оптически связанную с указанным по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,выходную оптику (OO), оптически связанную с указанным по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,причем указанные входная оптика (IO) и выходная оптика (OO) облегчают пропускание света, испускаемого указанным источником излучения, через указанные индивидуально регулируемые модуляторы (LM) света указанного пространственного модулятора (SLM) света к облучаемой области (IA),причем указанный пространственный модулятор (SLM) света обеспечивает возможность создания картинки из света, пропущенного через указанную входную оптику (IO), согласно управляющим сигналам, выдаваемым указанным устройством (CU) управления,причем указанная выходная оптика (OO) позволяет фокусировать картинку из света от указанного по меньшей мере одного пространственного модулятора (SLM) света на облучаемой области (IA); и(b) полимерную композицию, включающую:(A) по меньшей мере один акрилатный компонент,(B) по меньшей мере один метакрилатный компонент,(C) фотоинициатор.2. Система по п.1, в которой устройство включает сканирующую линейку, на которой смонтирована система (ES) экспонирования, и/или в которой расстояние d межд� |
