| 发明名称 |
processo de deposição de vapor de substratos em forma de fita com uma camada de barreira de óxido de alumìnio transparente por evaporação reativa de alumìnio e admissão de gás reativo em uma instalação de deposição de vapor de fita. |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
BR0315699(B1) |
申请公布日期 |
2012.11.27 |
| 申请号 |
BR20030015699 |
申请日期 |
2003.10.16 |
| 申请人 |
|
发明人 |
NICOLAS SCHILLER;STEFFEN STRAACH;MATHIAS RAEBISCH;CHRISTOPH CHARTON;MATTHIAS FAHLAND |
| 分类号 |
C23C14/02;C23C14/00;C23C14/08;C23C14/35;C23C28/00 |
主分类号 |
C23C14/02 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
