发明名称 Rückseitenfeld-Typ einer Heteroübergangssolarzelle und ein Herstellungsverfahren dafür
摘要 Der Rückseitenfeld-Typ einer Heteroübergangssolarzelle gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst ein kristallines Siliziumsubstrat eines ersten Leitfähigkeitstyps, eine Halbleiterschicht des ersten Leitfähigkeitstyps, die in der Oberschicht des Substrats vorgesehen ist, einen Entspiegelungsfilm, der auf der Vorderseite des Substrats vorgesehen ist, eine intrinsische Schicht, die auf der Rückseite des Substrats vorgesehen ist, amorphe Halbleiterschichten des ersten Leitfähigkeitstyps und amorphe Halbleiterschichten des zweiten Leitfähigkeitstyps, die wiederholt abwechselnd auf der intrinsischen Schicht angeordnet sind, und Elektroden des ersten Leitfähigkeitstyps und Elektroden des zweiten Leitfähigkeitstyps, die jeweils auf den amorphen Halbleiterschichten des ersten Leitfähigkeitstyps und den amorphen Halbleiterschichten des zweiten Leitfähigkeitstyps vorgesehen sind.
申请公布号 DE112010004921(T5) 申请公布日期 2012.11.22
申请号 DE20101104921T 申请日期 2010.12.17
申请人 HYUNDAI HEAVY INDUSTRIES CO. LTD. 发明人 ROH, SUNG BONG;YANG, SU MI;SONG, SEOK HYUN
分类号 H01L31/072;H01L31/042;H01L31/0747 主分类号 H01L31/072
代理机构 代理人
主权项
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