发明名称 Leistungshalbleiterbauteil
摘要 Bei einem Leistungshalbleiterbauteil zum Durchführen eines Schaltbetriebs mit einer hohen Geschwindigkeit, fließt beim Schalten ein Verschiebungsstrom, so dass eine hohe Spannung in Verbindung mit einem Widerstand eines Pfads von diesem entsteht und ein dielektrischer Durchschlag in einer dünnen Isolierschicht wie etwa einer Gate-Isolierschicht aufgrund der Spannung auftritt und das Halbleiterbauteil in manchen Fällen deshalb einen Ausfall erleidet. In einem Halbleiterbauteil nach der vorliegenden Erfindung ist ein in einem Außenumfangsabschnitt des Leistungshalbleiterbauteils vorgesehene Wannenzone des p-Typs in zwei Teile unterteilt, nämlich eine Innenseite und eine Außenseite, und eine Feldoxidschicht mit einer größeren Schichtdicke als die Gate-Isolierschicht ist auf einer Wannenzone an der Außenseite zu einer Innenseite eines Innenumfangs der Wannenzone vorgesehen. Deshalb ist es möglich, in der Gate-Isolierschicht einen dielektrischen Durchschlag aufgrund der Spannung, die beim Schalten durch den Fluss des Verschiebungsstroms entsteht, zu verhindern.
申请公布号 DE112009005320(T5) 申请公布日期 2012.11.22
申请号 DE200911005320T 申请日期 2009.10.14
申请人 MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION 发明人 MIURA, NARUHISA;NAKATA, SHUHEI;OHTSUKA, KENICHI;HINO, SHIRO;FURUKAWA, AKIHIKO;WATANABE, SHOYU
分类号 H01L29/78;H01L29/12 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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