发明名称 |
降低摩擦力之校正天平 |
摘要 |
本创作提供一种降低摩擦力之校正天平,其包括一校正装置以及一治具装置,其中,该校正装置包括两支撑座、两气浮轴承、一转轴、两进气孔以及一吊挂支架,两该支撑架间隔设置,两该气浮轴承各包括一位于该气浮轴承中间的轴腔,该转轴穿设于两该轴腔且固定于两该气浮轴承中间,两该进气孔分别穿设于两该支撑座,该吊挂支架设置于两该支撑座中间且固设于该转轴,该治具装置设置于该底座上端且位于该支撑座的一侧,藉此,将气体注入该气浮轴承使之悬浮于该转轴,减少因摩擦力而造成的误差。 |
申请公布号 |
TWM441820 |
申请公布日期 |
2012.11.21 |
申请号 |
TW101212898 |
申请日期 |
2012.07.04 |
申请人 |
冠亿齿轮股份有限公司 |
发明人 |
郑明达 |
分类号 |
G01L25/00 |
主分类号 |
G01L25/00 |
代理机构 |
|
代理人 |
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
一种降低摩擦力之校正天平,其包括有:一底座,其为一座体;一校正装置,其设置于该底座上端的一侧,该校正装置包括两支撑座、两气浮轴承、一转轴、两进气孔、两气嘴以及一吊挂支架,其中:两该支撑座间隔设置于该底座上端,该支撑座包括一形成于该支撑座中间的穿孔;两该气浮轴承为管状且各包括一位于该气浮轴承中间的轴腔;该转轴穿设于两该轴腔且固定于两该气浮轴承的中间,该转轴的一端突出于其中一支撑座;两该进气孔分别穿设于两该支撑座的壁面;两该气嘴分别设置于两该支撑座的壁面且对合于两该进气孔;该吊挂支架设置于两该支撑座中间且固设于该转轴;以及一治具装置,其设置于该底座上端且位于该转轴突出于该支撑座的一侧。 |
地址 |
新北市新庄区中正路891之43号11楼之6 |