发明名称 用于评估光学记录媒体表面上污染防护层级的方法、设备及光学记录媒体
摘要 本发明揭示一种用于评估一光学记录媒体表面上污染防护层级的方法。该方法包括藉由将一具有人造材料黏着于其上之戳印接触一光学记录媒体,以在该表面上形成一人造指纹,且测量已形成人造指纹的一符号错误率(SER),以决定该指纹之灵敏度,且根据已测量到之SER决定该光学记录媒体系品质良好或品质不良。
申请公布号 TWI377571 申请公布日期 2012.11.21
申请号 TW093134782 申请日期 2004.11.12
申请人 LG电子股份有限公司 发明人 徐勋;李承允;金真弘;金进镛
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种用于评估在一光学记录媒体上之污染防护层级的方法,至少包含以下步骤:藉由将一具有一人造材料黏着于其上之戳印与一光学记录媒体接触,以在该光学记录媒体一表面上形成一人造指纹;及在一已形成该人造指纹之区域中测量一符号错误率(SER);将该测量到之符号错误率(SER)与一参考值比较,以评估在该光学记录媒体之一污染防护层级,其中,当该测量到之符号错误率(SER)系少于该参考值4.2x10-3时,决定该光学记录媒体为具有一可接受的污染防护层级。如申请专利范围第1项所述之方法,其中该人造指纹材料系由水、甲醇、氯化钠、尿素、乳酸及紫色染料中至少任一者形成。如申请专利范围第1项所述之方法,其中该戳印系由矽(矽树脂)橡胶形成。如申请专利范围第1项所述之方法,其中该戳印具有一约10毫米(mm)之直径。如申请专利范围第1项所述之方法,其中该戳印以一500克(g)之压力接触该碟片。一种用于评估在光学记录媒体一表面上污染防护层级的方法,至少包含以下步骤:(a)以预定压力将一戳印接触在一戳印垫上,在该戳印垫上形成有一人造指纹材料,且黏着该人造指纹材料于该戳印上;(b)将具有该人造指纹材料之该戳印与该光学记录媒体一表面接触,以在该表面上形成一人造指纹;及(c)根据在形成该人造指纹之该位置上的一符号错误率(SER),评估在该光学记录媒体的一污染防护层级,其中,当该符号错误率(SER)系少于一参考值4.2x10-3时,决定该光学记录媒体为具有一可接受的污染防护层级。如申请专利范围第6项所述之方法,其中该步骤(b)以一预定压力将该戳印接触于该表面上。如申请专利范围第7项所述之方法,其中在该步骤(b)中,该预定压力系500克(g)。如申请专利范围第6项所述之方法,更包含以下步骤:依据一严格条件或一标准条件,控制具有自步骤(a)黏着于其上之人造戳印材料的该戳印接触一仿真件之次数。如申请专利范围第9项所述之方法,当该戳印是在一严格条件中时,自该戳印接触该仿真件之次数系0或1时,且当该戳印是在一标准条件中时,自该戳印接触该仿真件之次数系介于2与4间。如申请专利范围第9项所述之方法,其中当该戳印是在一严格条件中时,该步骤(c)包括当该SER系少于4.2x10-3时,决定该光学记录媒体为品质良好。如申请专利范围第9项所述之方法,其中当该戳印是在一标准条件中时,该步骤(c)包括当该SER系少于1.5x10-3时,决定该光学记录媒体为品质良好。如申请专利范围第9项所述之方法,其中该仿真件系由聚碳酸酯形成。如申请专利范围第6项所述之方法,其中该人造指纹材料系由水、甲醇、氯化钠、尿素、乳酸及紫色染料中至少任何一者形成。如申请专利范围第6项所述之方法,其中该戳印系由矽(矽树脂)橡胶形成。如申请专利范围第6项所述之方法,其中在步骤(a)中,该戳印系以500克(g)之压力接触该戳印垫。如申请专利范围第6项所述之方法,其中步骤(b)将在该标准条件中形成之戳印接触一光学记录媒体达一设定次数,且在该光学记录媒体表面上形成人造指纹。如申请专利范围第17项所述之方法,其中步骤(b)在该光学记录媒体表面上接触该戳印,直到形成在该光学记录媒体表面上之人造指纹覆盖该光学记录媒体的一长距离码(LDC)区块之至少50%。如申请专利范围第18项所述之方法,其中该步骤(c)包括当该SER系少于4.2x10-3时,决定该光学记录媒体为良好品质。一种与藉由如前述申请专利范围中任一项所述方法评估之污染防护层级的一光学记录媒体为相同种类的光学记录媒体。一种用于评估在一光学记录媒体上污染防护层级的设备,其至少包含:一戳印,被组态成藉由将具有一人造材料黏着于其上之该戳印接触一光学记录媒体,以在该光学记录媒体一表面上形成一人造指纹;及一测量单元,被组态成在一形成该人造指纹之区域中测量一符号错误率(SER)及将该测量到之符号错误率(SER)与一参考值比较,以评估在该光学记录媒体之一污染防护层级,其中,当该测量到之符号错误率(SER)系少于该参考值4.2x10-3时,该测量单元决定该光学记录媒体为具有一可接受的污染防护层级。如申请专利范围第21项所述之设备,其中该人造指纹材料系由水、甲醇、氯化钠(NaCl)、尿素、乳酸及紫色染料中至少任何一者形成。如申请专利范围第21项所述之设备,其中该戳印系由矽(矽树脂)橡胶形成。如申请专利范围第21项所述之设备,其中该戳印系以一500克(g)之压力接触该碟片。
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