发明名称 利用冷冲洗流体在一具有一乾燥增进物质之气体环境中洗净微电子基体之方法
摘要 本发明提供冲洗及乾燥一微电子装置之一表面以及在该微电子装置被转动的同时加强该冲洗流体从该微电子装置之表面的移除以作为一喷洒处理操作的部分。冲洗流体系藉由施配装置而大致被导引至该微电子装置之表面,同时一或多个此等微电子装置以一大致呈水平方式被支撑在一转盘上。乾燥气体系在该冲洗步骤之后来供应。在冲洗及乾燥步骤两者的至少一部分期间,一诸如异丙醇(IPA)之乾燥增进物质被传输以加强冲洗及乾燥。可藉由在该冲洗及乾燥步骤之至少一部分期间且在一微电子装置被可控制地转动的同时传输一诸如IPA之张力活性化合物来降低微粒数量及蒸发厚度。该张力活性化合物较佳地在冲洗及乾燥期间被传输至该处理腔室中,且较佳为去离子水之冲洗流体以一低于该张力活性化合物之露点的温度被较佳地施配至该微电子装置表面。再者,该微电子装置在乾燥期间的转动速度以及该张力活性化合物传输浓度、时间点与期间系较佳地予以最佳化,以达成微粒数量及蒸发厚度的进一步减少。
申请公布号 TWI377617 申请公布日期 2012.11.21
申请号 TW095111217 申请日期 2006.03.30
申请人 艾福斯埃国际公司 发明人 崔西A 盖斯特
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种处理一微电子装置之方法,其包含以下之步骤:将一微电子装置支持在一支撑件上,该支撑件被可操作地设置在一处理腔室中;藉由施配冲洗流体至位在该处理腔室中之微电子装置之一表面上来冲洗该微电子装置;在该冲洗步骤之至少一部分期间及在冲洗流体之施配结束之后的一段时间期间将乾燥增进物质传输至该处理腔室中之一气体环境中来乾燥该微电子装置,使得该乾燥增进物质以一所要浓度出现在该处理腔室之该气体环境中,该浓度系低于其饱和点以藉此针对该乾燥增进物质设定一露点;及将于该冲洗步骤之至少一最后部分期间所施配之冲洗流体的温度控制成低于位在该处理腔室中之乾燥增进物质的露点,以将于该冲洗步骤之至少一最后部分期间冷却该微电子装置之该表面至一可造成该气体环境之一局部冷却的温度,如此以使得乾燥增进物质凝结在该微电子装置之表面上。如请求项1之方法,其中该乾燥增进物质被传输而在该处理腔室中达到一介于1%及3.6%之间的体积浓度。如请求项2之方法,其中该乾燥增进物质以一介于1%及3.6%之间的体积浓度被传输至该处理腔室。如请求项2之方法,其中该乾燥增进物质包含张力活性化合物,其系与对该微电子装置不具反应性的气体相混合,且该张力活性化合物用以在该处理腔室中产生该乾燥增进物质之所要浓度。如请求项4之方法,其中该冲洗流体被冷却至一低于该乾燥增进物质之露点的温度,使得该冲洗流体将该微电子装置之该表面冷却至低于该乾燥增进物质之露点,以造成该乾燥增进物质从该气体环境之一邻近环境局部性凝结在该微电子装置之该表面上。如请求项5之方法,其中该冲洗流体被冷却至低于15℃以下的温度以在该冲洗步骤期间施配。如请求项5之方法,其中该冲洗流体被冷却至10℃或以下的温度以在该冲洗步骤期间施配。如请求项5之方法,其中该乾燥增进物质系以一接近从该冲洗步骤转移至该乾燥步骤的时间点被传输。如请求项8之方法,其中该乾燥增进物质系在整个乾燥步骤期间被传输,该乾燥步骤进一步包含以一介于300及3000 rpm之转动速度转动该微电子装置,以加强冲洗流体从该微电子装置之表面的移除。一种处理一微电子装置之方法,其包含以下之步骤:将一微电子装置支持在一可转动的支撑件上,该支撑件被可操作地设置在一处理腔室中;藉由在转动该微电子装置的同时将冲洗流体施配至位在该处理腔室中之该微电子装置之一表面上来冲洗该微电子装置;在冲洗流体之施配结束后藉由在一气体环境中转动该微电子装置来乾燥该微电子装置;在该冲洗步骤之至少一部分期间及在该乾燥步骤之一段时间期间将乾燥增进物质传输至位在该处理腔室中之该气体环境中,使得该乾燥增进物质以一所要浓度出现在该处理腔室之该气体环境中,该浓度系低于其饱和点以藉此针对该乾燥增进物质设定一露点;及将于该冲洗步骤之至少一最后部分期间所施配之冲洗流体的温度控制成低于位在该处理腔室中之乾燥增进物质的露点,以将于该冲洗步骤之至少一最后部分期间冷却该微电子装置之该表面至一可造成该气体环境之一局部冷却的温度,如此以使得乾燥增进物质凝结在该微电子装置之表面上。如请求项10之方法,其中该乾燥增进物质被传输而在该处理腔室中达到一介于1%及3.6%之间的体积浓度。如请求项11之方法,其中该乾燥增进物质以一介于1%及3.6%之间的体积浓度被传输至该处理腔室。如请求项11之方法,其中该乾燥增进物质包含张力活性化合物,其系与对该微电子装置不具反应性的气体相混合,且该张力活性化合物用以在该处理腔室中产生该乾燥增进物质之所要浓度。如请求项13之方法,其中该冲洗流体被冷却至一低于该乾燥增进物质之露点的温度,使得该冲洗流体将该微电子装置之该表面冷却至低于该乾燥增进物质之露点,以造成该乾燥增进物质从该气体环境之一邻近环境局部性凝结在该微电子装置之该表面上。如请求项14之方法,其中该冲洗流体被冷却至低于15℃以下的温度以在该冲洗步骤期间施配。如请求项14之方法,其中该冲洗流体被冷却至10℃或以下的温度以在该冲洗步骤期间施配。如请求项14之方法,其中该乾燥增进物质系以一接近从该冲洗步骤转移至该乾燥步骤的时间点被传输。如请求项17之方法,其中该乾燥增进物质系在整个乾燥步骤期间被传输,该乾燥步骤进一步包含以一介于300及3000 rpm之转动速度转动该微电子装置。
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