发明名称 微机电雷射扫描装置之二片式fθ镜片 TWO F-θ
摘要 一种微机电雷射扫描装置之二片式f θ镜片,具有一第一镜片及一第二镜片,均为新月形且凹面在微机电反射镜侧之镜片所构成,其中第一镜片具有一第一光学面及一第二光学面,系主要将微机电反射镜反射之角度与时间非线性关系之扫描关系之扫描光线光点转换成距离与时间为线性之扫描光线光点,第二镜片具有一第三光学面及一第四光学面,系主要将第一镜片之扫描光线修正聚光于目标物上,且第一镜片及第二镜片均满足特定之光学条件,藉由第一镜片及第二镜片的设置,可达成线性扫描效果与高解析度扫描之目的。
申请公布号 TWI377433 申请公布日期 2012.11.21
申请号 TW097110894 申请日期 2008.03.26
申请人 一品光学工业股份有限公司 发明人 施柏源
分类号 G03B27/00 主分类号 G03B27/00
代理机构 代理人 黄于真 新北市中和区中正路880号4楼之3;李国光 新北市中和区中正路880号4楼之3
主权项 一种微机电雷射扫描装置之二片式f i>θ/i>镜片,其系适用于一微机电雷射扫描装置,该微机电雷射扫描装置至少包含一用以发射光束之光源、一以共振左右摆动将该光源发射之光束反射成为扫描光线之微机电反射镜、及一用以感光之目标物;该二片式f i>θ/i>镜片包含,由该微机电反射镜起算依序,系由一新月形且凹面在该微机电反射镜侧之一第一镜片及系一新月形且凹面在该微机电反射镜侧之一第二镜片所构成,其中该第一镜片具有一第一光学面及一第二光学面,系将该微机电反射镜反射之角度与时间非线性关系之扫描光线光点转换成距离与时间为线性关系之扫描光线光点;其中该第二镜片具有一第三光学面及一第四光学面,系将该第一镜片之扫描光线修正聚光于该目标物上;藉由该二片式f i>θ/i>镜片将该微机电反射镜反射之扫描光线于该目标物上成像;该二片式fθ镜片在一主扫描方向满足下列条件:@sIMGCHAR!d10027.TIF@eIMG!;以及在一副扫描方向满足以下条件:@sIMGTIF!d10022.TIF@eIMG!其中,f(1)Y为该第一镜片在该主扫描方向之焦距、f(2)Y为该第二镜片在该主扫描方向之焦距、fs为该二片式fθ镜片之复合焦距、Rix为第i光学面在该副扫描(X)方向的曲率半径;nd1与nd2为该第一镜片与该第二镜片之折射率。如申请专利范围第1项所述之二片式f i>θ/i>镜片,在该主扫描方向进一步满足下列条件:@sIMGTIF!d10023.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10024.TIF@eIMG!其中,f(1)Y为该第一镜片在该主扫描方向之焦距、f(2)Y为该第二镜片在该主扫描方向之焦距、d3为i>θ/i>=0°该第一镜片的目标物侧光学面至该第二镜片的微机电反射镜侧光学面之距离、d4为i>θ/i>=0°该第二镜片厚度、d5为i>θ/i>=0°该第二镜片的目标物侧光学面至目标物之距离。如申请专利范围第1项所述之二片式f i>θ/i>镜片,其中最小光点大小与最大光点大小的比值满足:@sIMGTIF!d10025.TIF@eIMG!其中,Sa与Sb为扫描光线于该目标物上所形成的任一个光点在该副扫描方向及该主扫描方向之长度、δ为该目标物上最小光点大小与最大光点大小之比值。如申请专利范围第1项所述之二片式f i>θ/i>镜片,更满足以下条件:@sIMGTIF!d10026.TIF@eIMG!其中,Sa0与Sb0为该微机电反射镜反射面上扫描光线的光点在该副扫描方向及该主扫描方向之长度、Sa与Sb为该感光鼓上扫描光线形成的任一个光点在该副扫描方向及该主扫描方向之长度、ηmax为该微机电反射镜反射面上扫描光线的光点大小与经扫描在该目标物上最大光点大小的比值、ηmin为该微机电反射镜反射面上扫描光线的光点大小与经扫描在该目标物上最小光点大小的比值。
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