微影装置、元件制造方法及电脑可读取媒体

摘要

在一微影装置中，使用一照明模式执行一校正照射程序，该照明模式经配置以使得加热投影系统中靠近其一光瞳平面之一元件之选定部分，该选定部分在生产曝光期间为相对未经加热的。该校正照射程序目的在于改良该投影系统之光学元件加热之非均一性及/或减少一相位梯度。

主权项

一种微影装置，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束俾以选择性地以一第一照明模式或一第二照明模式照明一图案化元件；一支撑结构，其经建构以支撑该图案化元件，该图案化元件经组态以在该辐射光束之横截面中赋予该辐射光束一图案以形成一经图案化之光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该经图案化之光束投影至该基板之一目标部分上，该投影系统包含复数个光学元件及具有一光瞳平面，该等光学元件中之至少一者位于该光瞳平面中或附近；及一控制系统，其经组态以控制该照明系统、该支撑结构及该基板台，以当该图案化元件上之一图案及该基板台上之一基板处于该辐射光束之路径中时选择该第一照明模式以执行一生产曝光，及在无基板位于该辐射光束之路径中之一时间内选择该第二照明模式以执行一校正照射过程，其中，在该装置之使用中，在该图案化元件处之辐射之一角分布使得该经图案化之光束之一强度实质上包含于该第一照明模式中之该至少一光学元件之横截面的一第一部分中及该第二照明模式中之该至少一光学元件之横截面的一第二部分中，该第一部分及该第二部分实质上不重叠且该第一部分与该第二部分之组合不涵盖该至少一光学元件之整个横截面，且其中该第一照明模式包含一双极辐射分布，且该第二照明模式包含一四极辐射分布，该四极辐射分布具有邻近该第一照明模式之该等极之位置的极。如请求项1之装置，其进一步包含一交换机件以选择性地将一第一绕射型光学元件或一第二绕射型光学元件定位于该辐射光束之路径中，以分别实现该第一照明模式或该第二照明模式。如请求项1之装置，其进一步包含：在该辐射光束之路径中之一第一绕射型光学元件，该第一绕射型光学元件经配置以实现该第一照明模式；及一插入机件，该插入机件经配置以选择性地将一第二绕射型光学元件定位于该辐射光束之路径中，该第二绕射型元件经配置以与该第一绕射型光学元件组合而实现该第二照明模式。如请求项3之装置，其进一步包含一交换机件，该交换机件经配置以将复数个第一绕射型光学元件中之一者选择性地插入于该辐射光束之路径中，每一第一绕射型光学元件经配置以实现一不同的第一照明模式，且其中该第二绕射型元件经配置以与该等第一绕射型光学元件中之任一者组合而实现该第二照明模式。如请求项1之装置，其中该控制系统进一步经组态以控制一辐射源以在选择了该第一照明模式或该第二照明模式时分别以一第一功率位准或一第二功率位准发射该辐射光束，该第二功率位准高于该第一功率位准。如请求项1之装置，其中该第二部分经配置以使得该校正照射程序有效减少由该至少一光学元件之该生产曝光中之非均一加热引起的像差。如请求项1之装置，其中该双极分布之该等极为一圆环之片段，且该四极分布之该等极为该相同圆环之片段。如请求项1之装置，其中该第一照明模式与该第二照明模式之组合将使得在该投影系统中产生一不会导致在该所投影之经图案化光束中产生不可接受之像差的热效应。如请求项1之装置，其中该投影系统进一步包含一可调节光学元件，其经组态以校正该所投影之经图案化光束中之一像差且其中该第一照明模式与该第二照明模式之组合将使得在该投影系统中产生一导致可由该可调节光学元件校正之像差的热效应。一种元件制造方法，其包含：使用一具有一光瞳平面及包含复数个光学元件之投影系统将一具有一波长之经图案化之辐射光束投影至一基板上，该等光学元件中之至少一者位于该光瞳平面中或附近；以一具有实质上相同于该经图案化之光束之波长的校正辐射光束照射该投影系统；及控制在用以产生一辐射光束之一照明系统之一光瞳平面中的辐射分布，以形成该经图案化之光束及该校正光束，其中该经图案化之光束之一强度实质上包含于该至少一光学元件之横截面之一第一部分中，且该校正光束之一强度实质上包含于该至少一光学元件之横截面之一第二部分中，该第一部分及该第二部分实质上不重叠且该第一部分与该第二部分之组合不涵盖该至少一光学元件之整个横截面，且其中用以形成该经图案化之光束之该辐射光束具有在该照明系统之该光瞳平面中之一第一辐射分布，且用以形成该校正光束之该辐射光束具有在该照明系统之该光瞳平面中之一第二辐射分布，该第一辐射分布为一双极分布，且该第二辐射分布为一四极分布，该四极分布具有邻近该第一辐射分布之该等极之位置的极。如请求项10之方法，其中该经图案化之光束及该校正光束分别具有第一功率位准及第二功率位准，该第二功率位准高于该第一功率位准。如请求项10之方法，其中该第二部分经配置以使得以该校正光束进行之照射有效减少在该经图案化之光束之投影期间由该至少一光学元件之不均一加热引起的像差。如请求项10之方法，其进一步包含：选择性地将一第一绕射型光学元件或一第二绕射型光学元件定位于该辐射光束之路径中；及使用该经定位之绕射型光学元件来控制该辐射分布。如请求项13之方法，其进一步包含：将一第一绕射型光学元件提供于该辐射光束之路径中，该第一绕射型光学元件经配置以实现第一照明模式；及选择性地将一第二绕射型光学元件定位于该辐射光束之路径中，该第二绕射型元件经配置以与该第一绕射型光学元件组合而实现第二照明模式。如请求项14之方法，其进一步包含使用一交换机件，该交换机件经配置以将复数个第一绕射型光学元件中之一者选择性地插入于该辐射光束之路径中，每一第一绕射型光学元件经配置以实现一不同的第一照明模式，且其中该第二绕射型元件经配置以与该等第一绕射型光学元件中之任一者组合而实现该第二照明模式。如请求项10之方法，其中该双极分布之该等极为一圆环之片段，且该四极分布之该等极为该相同圆环之片段。如请求项10之方法，其中用以形成该经图案化之光束之该辐射光束具有在该照明系统之该光瞳平面中之一第一辐射分布，且用以形成该校正光束之该辐射光束具有在该照明系统之该光瞳平面中之一第二辐射分布，该第一辐射分布与该第二辐射分布之组合使得在该投影系统中产生不会导致在该所投影之经图案化光束中产生不可接受之像差的热效应。如请求项10之方法，其中该投影系统具有一可调节光学元件，其经组态以校正该所投影之影像中之一像差，且用以形成该经图案化之光束之该辐射光束具有在该照明系统之该光瞳平面中之一第一辐射分布，且用以形成该校正光束之该辐射光束具有在该照明系统之该光瞳平面中之一第二辐射分布，该第一辐射分布与该第二辐射分布之组合使得在该投影系统中产生导致可由该可调节光学元件校正之像差的热效应。一种上面储存有一电脑程式之电脑可读取媒体，其包含控制一微影装置以执行一元件制造方法之指令，该微影装置具有一具有一光瞳平面及复数个光学元件之投影系统，该等光学元件中之至少一者位于该光瞳平面中或附近，该方法包含：使用该投影系统将一具有一波长之经图案化之辐射光束投影至一基板上；及以一具有实质上相同于该经图案化之光束之波长的校正辐射光束照射该投影系统，其中该经图案化之光束之一强度实质上包含于该至少一光学元件之横截面之一第一部分中，且该校正光束之一强度实质上包含于该至少一光学元件之横截面之一第二部分中，该第一部分及该第二部分实质上不重叠且该第一部分与该第二部分之组合不涵盖该至少一光学元件之整个横截面，且其中用以形成该经图案化之光束之该辐射光束具有在一照明系统之一光瞳平面中之一第一辐射分布，且用以形成该校正光束之该辐射光束具有在该照明系统之该光瞳平面中之一第二辐射分布，该第一辐射分布为一双极分布且该第二辐射分布为一四极分布，该四极分布具有邻近该第一辐射分布之该等极之位置的极。如请求项19之电脑可读取媒体，其中该经图案化之光束及该校正光束分别具有第一功率位准及第二功率位准，该第二功率位准高于该第一功率位准。