基板处理方法及基板处理装置

摘要

本发明之课题是提供一种在从吐出喷嘴将洗净液吐出到基板之表面并使吐出喷嘴扫描来使基板旋转乾燥时不会发生显像缺陷等之方法。;本发明之解决手段是利用旋转夹嘴10将基板W保持为水平姿势，利用旋转马达14使其围绕铅直轴旋转，同时从纯水吐出喷嘴20之吐出口对基板W之表面吐出洗净液，并当使纯水吐出喷嘴20之吐出口从对向于基板W之中心的位置处扫描到对向于基板W之周缘的位置处时，在纯水吐出喷嘴20开始移动之后，在基板W之中心附近只产生1个成为在基板W形成乾燥区域时之起点的乾燥核心，防止在基板W之中心附近产生2个以上之乾燥核心。然后，使以1个乾燥核心为起点的乾燥区域在基板W之表面整体扩大，来使基板乾燥。

主权项

一种基板处理方法，系将基板保持为水平姿势使其围绕铅直轴旋转，同时从吐出喷嘴之吐出口将洗净液朝向基板之表面连续吐出，并使上述吐出喷嘴之吐出口从对向于基板之中心的位置处扫描到与基板之周缘对向之位置处，使基板乾燥；其特征在于：上述吐出喷嘴之吐出口从对向于基板之中心的位置朝向基板之周缘开始移动，在以基板之中心位置作为中心，以到对向于上述吐出喷嘴之吐出口的基板面上之位置为止之距离为半径的圆周内方之区域中，于产生作为在表面被洗净液覆盖之状态之基板形成乾燥区域时的起点之第1个乾燥核心后、产生第2个乾燥核心前，从气体喷出喷嘴之喷出口朝向基板之中心部表面吹喷气体，使以上述第1个乾燥核心作为起点之乾燥区域在基板之表面整体扩大，而使基板乾燥。如申请专利范围第1项之基板处理方法，其中，从上述气体喷出喷嘴之喷出口朝向基板之中心部表面，瞬间吹喷大流量之气体。如申请专利范围第1项之基板处理方法，其中，从上述气体喷出喷嘴之喷出口朝向基板之中心部表面，连续地吹喷小流量之气体。一种基板处理方法，系将基板保持为水平姿势使其围绕铅直轴旋转，同时从吐出喷嘴之吐出口将洗净液朝向基板之表面连续吐出，并使上述吐出喷嘴之吐出口从对向于基板之中心的位置处扫描到与基板之周缘对向之位置处，使基板乾燥；其特征在于：上述吐出喷嘴之吐出口从对向于基板之中心的位置处朝向基板之周缘开始移动之后，在基板之中心部份开始乾燥前，使上述吐出喷嘴之吐出口暂时停止，在以基板之中心位置为中心，以到对向于上述吐出喷嘴之吐出口的基板面上之位置为止之距离作为半径的圆周内方之小区域中开始乾燥后，使上述吐出喷嘴之吐出口再度朝向基板之周缘移动，只产生1个作为在表面被洗净液覆盖之状态之基板形成乾燥区域时的起点之乾燥核心，使以该乾燥核心作为起点之乾燥区域在基板之表面整体扩大，而使基板乾燥。如申请专利范围第4项之基板处理方法，其中，在上述吐出喷嘴之吐出口从对向于基板之中心的位置处朝向基板之周缘开始移动之后，从气体喷出喷嘴之喷出口朝向基板之中心部表面喷出乾燥用气体。一种基板处理装置，系具备有：基板保持手段，用来将基板保持为水平姿势；基板旋转手段，用来使由该基板保持手段保持之基板围绕铅直轴旋转；吐出喷嘴，从吐出口将洗净液吐出到由上述基板保持手段所保持且由上述基板旋转手段产生旋转的基板之表面；洗净液供给手段，用来对该吐出喷嘴供给洗净液；和喷嘴移动手段，用来使上述吐出喷嘴之吐出口，从其吐出口朝向基板之表面连续吐出洗净液，并从对向于基板之中心的位置处扫描到对向于基板之周缘的位置处；如此所成之基板处理装置，其特征在于更具备有：气体喷出喷嘴，在喷出口停止于对向于基板之中心部的位置处之状态下，从该喷出口朝向基板之中心部表面吹喷气体；气体供给手段，用来对该气体喷出喷嘴供给气体；和控制手段，用来控制上述气体供给手段成为在上述吐出喷嘴之吐出口从对向于基板之中心的位置处朝向基板之周缘刚开始移动后，并在产生作为于基板形成乾燥区域时的起点之第1个乾燥核心后、产生第2个乾燥核心前，从上述气体喷出喷嘴之喷出口朝向基板之中心部表面吹喷气体。如申请专利范围第6项之基板处理装置，其中，上述控制手段控制上述气体供给手段成为从上述气体喷出喷嘴之喷出口朝向基板之中心部表面瞬间吹喷大流量之气体。如申请专利范围第6项之基板处理装置，其中，上述控制手段控制上述气体供给手段成为从上述气体喷出喷嘴之喷出口朝向基板之中心部表面连续吹喷小流量之气体。一种基板处理装置，系具备有：基板保持手段，用来将基板保持为水平姿势；基板旋转手段，用来使由该基板保持手段所保持之基板围绕铅直轴旋转；吐出喷嘴，从吐出口将洗净液吐出到由上述基板保持手段所保持且由上述基板旋转手段产生旋转的基板之表面；洗净液供给手段，用来对该吐出喷嘴供给洗净液；和喷嘴移动手段，用来使上述吐出喷嘴之吐出口，从其吐出口朝向基板之表面连续吐出洗净液，并从对向于基板之中心的位置处扫描到对向于基板之周缘的位置处；如此所成之基板处理装置，其特征在于更具备有：控制手段，用来控制上述喷嘴移动手段成为在上述吐出喷嘴之吐出口从对向于基板之中心的位置处朝向基板之周缘开始移动后，于基板之中心部份之乾燥开始前，使上述吐出喷嘴之吐出口暂时停止，在以基板之中心位置作为中心，以到对向于上述吐出喷嘴之吐出口的基板面上之位置为止之距离为半径的圆周内方之小区域开始乾燥后，使上述吐出喷嘴之吐出口再度朝向基板之周缘移动。如申请专利范围第9项之基板处理装置，其中，更具备有：气体喷出喷嘴，从喷出口将乾燥用气体喷出到由上述基板保持手段保持且由上述基板旋转手段产生旋转的基板之中心部表面；和气体供给手段，用来对该气体喷出喷嘴供给乾燥用气体。