承载光罩之装置及使用该装置加工光罩之方法

摘要

本发明揭示一种可供在一多步骤且多位置之处理加工期间承载光罩之装置，其包括一承载至少三支撑杆之结构架体，该等杆及/或架体系由一硬内部心材及一具化学抗性外部材料所构成。在一实施例中，该装置进一步包括复数个可供支撑该等光罩之槽，其将该等光罩与该装置间之接触面积减到最小。适宜之硬内部心材包括碳纤维、石英、陶瓷、聚醚醚酮(polyaryletherketone/PEEK)及碳化矽。适宜之外部材料则包括氟聚合物，诸如聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene/PTFE)、过氟烷基化物(Polyfluoroalkoxy/PFA)、三氟甲硝酚(3-trifluoromethyl-4-nitrophenol/TFM)及聚氯三氟化烯(Polychlorotrifuoroethylene/ECTFE)。该装置较佳地系适于可承受一于20至180℃间之光罩处理加工温度。该杆及架体较佳地系被设计成可减小光罩之荫影效应，而该光罩系被支撑于正曝露于超音波能量之装置中。在另一种态样中，本发明系为一使用该装置以加工光罩之方法。

主权项

一种承载大体上呈矩形之光罩之装置，具有一顶缘、底缘、一左侧缘及一右侧缘，该装置包括：一结构架体，其承载至少三支撑杆；该杆之配置使得在一光罩被该支撑杆支撑时，该光罩之顶缘系呈一由该光罩之左侧缘或右侧缘其中之一侧缘至该光罩之左侧缘或右侧缘其中另一侧缘之斜面。如请求项1之装置，其中该架体包括一大体上扁平之前板及一大体上扁平且与该前板相对置之后板，该杆在该前板与后板之间延伸。如请求项2之装置，其中该架体进一步包括连接该前板及该后板之二大体上扁平之侧板。如请求项3之装置，其中该两侧板中每一侧板之一顶面系弧形或成角度的，以使被陷留在该侧板之该顶面之一流体量尽量减少。如请求项1之装置，其中该架体系由一硬内部心材及一具化学抗性外部材料所构成。如请求项5之装置，其中该架体之该硬内部心材系选自该由碳纤维、石英、陶瓷、聚醚醚酮(polyaryletherketone/PEEK)及碳化矽所构成之群组。如请求项5之装置，其中该外部材料系一选自该由聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene/PTFE)、三氟甲硝酚(3-trifluoromethyl-4-nitrophenol/TFM)、过氟烷基化物(Polyfluoroalkoxy/PFA)及聚氯三氟化烯(Polychlorotrifuoroethylene/ECTFE)所构成之群组之氟聚合物。如请求项1之装置，其中该等杆系由一种硬内部心材及一具化学抗性之外部材料所构成。如请求项8之装置，其中该等杆之该外部材料系一选自该由聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene/PTFE)、三氟甲硝酚(3-u>trifluoromethyl/u>-4-u>nitrophenol/u>/TFM)、过氟烷基化物(Polyfluoroalkoxy/PFA)及聚氯三氟化烯(Polychlorotrifuoroethylene/ECTFE)所构成之群组之氟聚合物且该硬内部心材选自由石英、陶瓷、聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene/PEEK)及碳化矽组成之群组。如请求项1之装置，其中该装置适于承受一于20至180℃间之光罩处理作业温度。如请求项1之装置，其中各杆具有复数个槽以供接纳并支撑光罩于一大体直立之位置，该等杆于该架体内被定向成可使位于该等杆上之该等槽被对准。如请求项11之装置，其中该等杆之截面概呈圆形或椭圆形，该等槽延伸环绕该等杆之一周边。如请求项11之装置，其中该等槽具有斜壁，其接触并支撑一置于其内之光罩的边缘。如请求项13之装置，其中该等杆包括至少一底支撑杆及至少一侧支撑杆，位于该等侧支撑杆上之该等槽具有一脊部，其设置于该等槽之一底部，以致使当一光罩被置于其内时，该光罩可仅接触到该斜壁及该脊部。如请求项13之装置，其中该等杆包括至少一底支撑杆及至少一侧支撑杆，位于该等底支撑杆之该等槽上之该等斜壁被形成角度，以致当一光罩被置于其内时，该光罩可仅接触到该斜壁。如请求项1之装置，其中该装置适于支撑1至10个光罩之负荷。如请求项1之装置，其中该等杆包括至少一底支撑杆及至少一侧支撑杆，该等侧支撑杆及该等底支撑杆之截面呈圆形。如请求项1之装置，其中该等杆包括至少一底支撑杆及至少一侧支撑杆，该等底支撑杆适于承载比该等侧支撑杆更大之重量。如请求项18之装置，其中该等侧支撑杆被设置于一可导引该等受承载光罩之位置，如此可防止该等受承载之光罩彼此倚靠。如请求项1之装置，其中该等杆可自该架体处移去。如请求项20之装置，其中该等杆包括一可供将该等杆锁固至该架体及自该架体松脱之构件。如请求项1之装置，其中该等杆及架体被设计成具有最小化截面积，俾可将被支撑在该装置中且被暴露至超音波能量之光罩上之荫影效应减至最小。如请求项1之装置，其中该架体包括可利于在一处理槽中适当对准该装置之构件。如请求项1之装置，其中该等杆包括一第一底支撑杆及第二底支撑杆，该第一底支撑杆被连接至该架体于一低于该第二底支撑杆之位置。一种处理光罩之方法，其包括：提供一装置，其包括一承载至少三支撑杆之结构架体，该等杆系由一硬内部心材及一具化学抗性外部材料所构成；承载至少一光罩于该装置中，以使该光罩之顶缘系由该光罩之左侧缘或右侧缘其中之一侧缘至该光罩之左侧缘或右侧缘其中另一侧缘成一斜面；定位该装置及该受承载光罩于一处理室中；及对该等受承载之光罩执行一第一光罩之处理作业。如请求项25之方法，其进一步包括对该等受承载之光罩执行一第二光罩之处理作业，而不需将该等光罩从该装置上移去。