测量曝光机台之数值孔径的方法、控片、光罩与监控曝光机台之数值孔径的方法

摘要

一种测量曝光机台之数值孔径的方法。首先提供一控片及一像差光罩，其中控片上有复数个刻度尺标记，像差光罩上则有复数个针孔，其中每一个针孔的位置对应一个刻度尺标记的位置。接着使用曝光机台与像差光罩对控片进行一微影制程，以在每一个刻度尺标记上方形成形状与曝光机台之光源之照光图案相同的光阻图案，再由光阻图案外缘所对应之刻度尺标记的刻度求得曝光机台的数值孔径。

主权项

一种测量曝光机台之数值孔径的方法，该曝光机台之一光源具有一照光图案，该方法包括：提供一控片，其上有复数个刻度尺标记；提供一像差光罩，其上有复数个针孔，其中每一个针孔的位置对应一个刻度尺标记的位置；使用该曝光机台与该像差光罩对该控片进行一微影制程，以在每一个刻度尺标记上方形成形状与该照光图案相同的一光阻图案；以及由该光阻图案外缘所对应之该刻度尺标记的刻度求得该曝光机台的数值孔径。如申请专利范围第1项所述之测量曝光机台之数值孔径的方法，其中该光阻图案包括形成于该控片上之一正光阻层中的至少一开口。如申请专利范围第1项所述之测量曝光机台之数值孔径的方法，其中各该刻度尺标记包括至少一有刻度线状图案。如申请专利范围第3项所述之测量曝光机台之数值孔径的方法，其中各该刻度尺标记包括：一X向有刻度直线图案、一Y向有刻度直线图案、一45°角有刻度直线图案及一-45°角有刻度直线图案，该四有刻度直线图案的中点互相重合。如申请专利范围第1项所述之测量曝光机台之数值孔径的方法，其中该光源为一面光源。如申请专利范围第1项所述之测量曝光机台之数值孔径的方法，其中该光源为一偏轴式光源。如申请专利范围第6项所述之测量曝光机台之数值孔径的方法，其中该偏轴式光源之照光图案为环状照光图案、X偶极照光图案、Y偶极照光图案或四极照光图案。一种监控曝光机台之数值孔径的方法，该曝光机台之一光源具有一照光图案，该方法包括：提供一控片，其上有复数个刻度尺标记；提供一像差光罩，其上有复数个针孔，其中每一个针孔的位置对应一个刻度尺标记的位置；依照所需数值孔径来设定该曝光机台；使用该曝光机台与该像差光罩对该控片进行一微影制程，以在每一个刻度尺标记上方形成形状与该照光图案相同的一光阻图案；由该光阻图案外缘所对应之该刻度尺标记的刻度求得该曝光机台的实际数值孔径；将该实际数值孔径与该所需数值孔径比较，并根据比较结果调整该曝光机台；以及建立该曝光机台之数值孔径资料库。如申请专利范围第8项所述之监控曝光机台之数值孔径的方法，其中该资料库包含下述资料：对应该所需数值孔径之设定参数值、该实际数值孔径，以及该比较与该调整之结果。