| 发明名称 | 一种改善真空获得和保持的装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种改善真空获得和保持的装置，该装置包括反应腔(300)、闸板门(200)和进样室(100)，其中，反应腔(300)与进样室(100)通过闸板门(200)连接。本发明同时公开了一种改善真空获得和保持的方法。利用本发明，通过改进进样室的设计，将进样室和反应腔用闸板门连接，再将进样室用胶圈密封，使真空腔可以实现在不需要安装放气阀的情况下全部由闸板门密封，减少了腔体内壁接触到空气的时间，降低了空气吸附到腔体壁上的可能，使反应腔能够在较短的时间内达到高真空，同时在反应中能有效地保护反应腔内不受外界气氛的干扰，降低了生产实验所需的时间提高了产品的质量。 | ||
| 申请公布号 | CN102784592A | 申请公布日期 | 2012.11.21 |
| 申请号 | CN201110128618.2 | 申请日期 | 2011.05.18 |
| 申请人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明人 | 刘宇;刘明;龙世兵;谢常青;胡媛 |
| 分类号 | B01J3/03(2006.01)I | 主分类号 | B01J3/03(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 周国城 |
| 主权项 | 一种改善真空获得和保持的装置，其特征在于，该装置包括反应腔(300)、闸板门(200)和进样室(100)，其中，反应腔(300)与进样室(100)通过闸板门(200)连接。 | ||
| 地址 | 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 | ||