| 发明名称 | 低折射率层形成用组合物、使用该组合物的防反射薄膜、偏光板以及显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及低折射率层形成用组合物、使用该组合物的防反射薄膜、偏光板以及显示装置。该低折射率层形成用组合物，包含：中空二氧化硅颗粒（A）；氟化(甲基)丙烯酸酯化合物（B），其使分子中具有三个以上的异氰酸酯基的化合物、和由如下式1表示的氟代醇以及2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯进行反应而得到；(甲基)丙烯酸酯单体（C）；光引发剂（D）以及溶剂（E）。<img file="dda00001646767000011.GIF" wi="420" he="217" />（式1），（式1中，Y分别独立地表示H或者F，n以及m分别为0～200的整数。）上述低折射率层形成用组合物在应用于防反射薄膜中时，具有优异的耐防污性以及耐指纹性，尤其具有卓越的反射率等防反射特性。而且，上述防反射薄膜能够有效地应用于偏光板以及显示装置。 | ||
| 申请公布号 | CN102786823A | 申请公布日期 | 2012.11.21 |
| 申请号 | CN201210152950.7 | 申请日期 | 2012.05.16 |
| 申请人 | 东友精细化工有限公司 | 发明人 | 安锺南;李杜峰 |
| 分类号 | C09D4/02(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I | 主分类号 | C09D4/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人 | 朱梅;刘晔 |
| 主权项 | 1.一种低折射率层形成用组合物，其特征在于，包含：中空二氧化硅颗粒（A）；氟化(甲基)丙烯酸酯化合物（B），其使分子中具有三个以上的异氰酸酯基的化合物、和由如下式1表示的氟代醇以及2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯进行反应而得到；(甲基)丙烯酸酯单体（C）；光引发剂（D）以及溶剂（E），【化学式1】<img file="FDA00001646766800011.GIF" wi="421" he="218" />（式1）式1中，Y分别独立地表示H或者F，n以及m分别为0～200的整数。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道 | ||