| 发明名称 | 光谱纯度滤光片、光刻设备、制造光谱纯度滤光片的方法和使用光刻设备制造器件的方法 | ||
| 摘要 | 一种光谱纯度滤光片，包括：基底、穿过所述基底的多个孔和多个壁。所述壁限定了穿过所述基底的多个孔。所述光谱纯度滤光片还包括：第一层，形成在所述基底上以反射第一波长的辐射；和第二层，形成在所述第一层上以防止所述第一层氧化。所述孔被构造和布置成能够使第二波长的辐射的至少一部分从其中透射穿过。 | ||
| 申请公布号 | CN102792228A | 申请公布日期 | 2012.11.21 |
| 申请号 | CN201080040588.3 | 申请日期 | 2010.07.29 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | A·亚库宁;M·范卡朋;V·季莫什科夫 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G21K1/06(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 吴敬莲 |
| 主权项 | 一种光谱纯度滤光片，包括：基底；穿过所述基底的多个孔；多个壁，所述壁限定穿过所述基底的所述多个孔；第一层，形成在所述基底上以反射第一波长的辐射；和第二层，形成在所述第一层上以防止所述第一层氧化；其中所述孔被构造和布置成能够使第二波长的辐射的至少一部分从其中透射穿过。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||