发明名称 <sup>60</sup>Coγ射线辐照用于降解多菌灵、噻菌灵和甲基托布津三种杀菌剂的方法
摘要 本发明涉及一种60Coγ射线辐照用于降解多菌灵、噻菌灵和甲基托布津三种杀菌剂的方法,残留有多菌灵、噻菌灵和甲基托布津的水,先充入1ppm的臭氧,再经过60Coγ射线辐照产生化学反应,生成氧化性极强的·OH、还原性极强的水合电子eaq-、·H自由基,这些自由基·OH与多菌灵、噻菌灵和甲基托布津中的芳香族化合物或不饱和基团发生加成反应,导致三种杀菌剂降解。60Coγ射线辐照吸收剂量为5-10kGy,pH值为10以上。本发明通过60Coγ射线辐射与臭氧联用的处理技术,对有多菌灵、噻菌灵和甲基托布津三种杀菌剂的水溶液降解效果都比较显著,并且吸收剂量越大,药物的降解率越高。
申请公布号 CN102786113A 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN201210298893.3 申请日期 2012.08.21
申请人 湖北省农业科学院农产品加工与核农技术研究所 发明人 廖涛;程薇;熊光权;耿胜荣;李新;鉏晓艳;陈玉霞;叶敏;吴文锦;夏和舟
分类号 C02F1/30(2006.01)I;C02F1/78(2006.01)I 主分类号 C02F1/30(2006.01)I
代理机构 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人 朱盛华
主权项 60Coγ射线辐照用于降解多菌灵、噻菌灵和甲基托布津三种杀菌剂的方法,60Coγ射线辐照残留有多菌灵、噻菌灵和甲基托布津的水,经过辐照产生化学反应,生成氧化性极强的·OH、还原性极强的水合电子eaq‑、·H自由基,这些自由基·OH与多菌灵、噻菌灵和甲基托布津中的芳香族化合物或不饱和基团发生加成反应,导致三种杀菌剂降解,其特征在于多菌灵、噻菌灵和甲基托布津的水溶液中先充入1ppm的臭氧,形成残留有多菌灵、噻菌灵和甲基托布津的臭氧水溶液,再用60Coγ射线辐照,60Coγ射线辐照吸收剂量为5‑10kGy。
地址 430064 湖北省武汉市洪山区南湖大道8号