193nm抗蚀剂

摘要

一种能够用193nm射线和/或可能的其他射线成像并且能够显影形成显影性能和抗蚀性均得以改善的抗蚀剂结构的酸催化正抗蚀剂组合物，可以通过使用含成像聚合物组分的抗蚀剂组合物得到，成像聚合物组分包含具有单体单元的酸敏性聚合物，这些单体单元具有含远端酸不稳定性部分的侧基。

主权项

1.一种用于193nm平版印刷法的抗蚀剂组合物，其包括：(a)成像聚合物组分，和(b)辐射敏感性酸生成剂，所述成像聚合物组分包含酸敏性聚合物，该酸敏性聚合物具有：(1)以下结构的含远端酸不稳定性部分的单体单元：其中：(i)X是亚烷基或亚烷基醚，(ii)M是烯属骨架部分，其选自其中位置1表示与X或与羧基部分结合的键，R₁选自H、CN、CH₃或CF₃且任选用C₁-C₆直链或支链烷基取代M骨架部分上的一个或多个氢，(iii)q是0或1，和(iv)Q是含有远端酸不稳定性部分的基团，其独立地选自叔丁基酯、甲基环己基酯及其组合；以及(2)含有促进所述抗蚀剂在碱性水溶液中溶解的极性部分的丙烯酸单体单元，所述极性部分含有选自氟醇的极性基团。