| 发明名称 | 用于真空蒸发沉积系统的喷射器 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于真空蒸发沉积系统的喷射器，所述喷射器包括喷射导管和扩散器，所述喷射导管适于接纳来自真空蒸发源的蒸发物质，所述扩散器包括多个喷嘴以便将所述蒸发物质扩散至真空沉积室中，每一喷嘴包括适于将所述喷射导管连接至所述沉积室的通道。根据本发明，所述扩散器具有空间上变化的喷嘴分布。本发明还涉及用于校准喷射器的方法和用于制造喷射器的扩散器的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102787298A | 申请公布日期 | 2012.11.21 |
| 申请号 | CN201210157290.1 | 申请日期 | 2012.05.18 |
| 申请人 | 瑞必尔 | 发明人 | J-L·居约克斯;F·施特梅伦;C·德奥利维拉 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 吴鹏;马江立 |
| 主权项 | 一种用于真空蒸发沉积系统的喷射器（3），所述喷射器包括：喷射导管，所述喷射导管适于接纳来自真空蒸发源（2）的蒸发物质，以及扩散器（4），所述扩散器包括多个喷嘴以便将所述蒸发物质扩散至真空沉积室（5）中，每一喷嘴包括适于将所述喷射导管连接至所述沉积室（5）的通道（13），其特征在于，所述扩散器（4）具有空间上变化的喷嘴分布。 | ||
| 地址 | 法国贝松 | ||