发明名称 一种基于莫尔条纹的反射式光刻对准装置
摘要 本发明是一种基于莫尔条纹的反射式光刻对准装置,采用适用于接近接触式光刻对准的反射式光路系统,该装置包括对准照明系统、半反半透镜、掩模板、掩模光栅标记、硅片光栅标记、硅片、位移工件台、条纹接收系统和计算机,对准照明系统将对准平行光以45°角入射到半反半透镜上,半反半透镜将对准平行光反射到掩模板上的光栅标记发生衍射,衍射光继续传播入射到硅片上的光栅标记发生衍射,从而使掩模光栅标记与硅片光栅标记叠加,反射光继续传播通过半反半透镜,条纹成像系统接收对准条纹图像,图像经过计算机分析处理获取掩模板硅片的位移关系,并实时反馈给位移工件台实现x、y两个方向的对准。
申请公布号 CN102789137A 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN201210245688.0 申请日期 2012.07.16
申请人 中国科学院光电技术研究所 发明人 朱江平;胡松;唐燕;刘旗;何渝;邸成良
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 梁爱荣
主权项 一种基于莫尔条纹的反射式光刻对准装置,其特征在于:该装置采用适用于接近接触式光刻对准的反射式光路系统,该装置包括对准照明系统、半反半透镜、掩模板、掩模光栅标记、硅片光栅标记、硅片、位移工件台、条纹接收系统和计算机;对准照明系统输出对准平行光;半反半透镜的反射面与对准照明系统的输出面呈45°放置,半反半透镜接收对准平行光,并输出对准反射光;掩模板的上表面与半反半透镜反射面呈45°角放置,掩模板接收半反半透镜的对准反射光,并将对准反射光在掩模光栅标记上发生衍射生成并输出第一衍射光;硅片与掩模板相互平行放置,硅片接收第一衍射光,并在硅片上的光栅标记继续发生衍射生成并输出第二衍射光,从而使掩模光栅标记与硅片光栅标记叠加生成衍射后的反射光;半反半透镜的反射面接收并继续传播的衍射后反射光,半反半透镜的透射面输出衍射后的透射光;条纹成像系统与半反半透镜的透射面呈45°角放置,用于接收衍射后的透射光,将衍射后的透射光生成并输出对准条纹图像;计算机与条纹成像系统连接,计算机对准条纹图像做分析处理,获取掩模板与硅片的位移关系,并实时反馈给位移工件台实现x、y两个方向的对准。
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