| 发明名称 | 一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口的制备方法，属于红外光学窗口领域，它通过在红外光学窗口的入射面和出射面刻蚀抗反射结构来提高透射率。本发明的方法制备的这种结构可明显增加红外窗口的透过率，提高红外器件的灵敏度，在8～14um波段，双面抛光硅片的平均透过率在45%左右，而本发明的红外光学窗口在此波段范围内测得的平均透过率达到了65%，提升高达20%，其中最高透过率达到73%。 | ||
| 申请公布号 | CN102789008A | 申请公布日期 | 2012.11.21 |
| 申请号 | CN201210325644.9 | 申请日期 | 2012.09.06 |
| 申请人 | 电子科技大学 | 发明人 | 何少伟;陈鹏杰;王明星;胡庆;徐向东;李伟 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 成都华典专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人 | 徐丰;杨保刚 |
| 主权项 | 一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口的制备方法，其特征在于：它通过在红外光学窗口的入射面和出射面刻蚀抗反射结构来提高透射率。 | ||
| 地址 | 611731 四川省成都市高新区（西区）西源大道2006号 | ||